不过EUV光刻机涵盖10万个零部件 ， 调动光子撞击光刻胶就需要所有的零部件同时工作 ， 不仅反应随机 ， 而且步骤环节也是随机的 。

这想要找出具体的随机效应发生位置恐怕难度不小 。 除此之外 ， 光学检测以及电子束检测或许也能用上 。 但是否有效就需要ASML ， 芯片制造商的具体验证了 。
写在最后专业的事情就交给专业的人做 ， ASML ， 台积电都是世界第一的行业领域巨头 ， 该如何应对就看他们的努力了 。 ASML仍在持续研发更先进的光刻机 ， 采用高数值孔径系统 ， 台积电也在努力研发出3nm ， 2nm工艺芯片的量产 。
站在人类科技进步的角度 ， 希望他们能尽早解决问题取得突破 ， 让人类芯片工艺更上一层楼 。
【光刻机|EUV光刻机“隐疾”突显，ASML不愿看到的情况正在发生】对此 ， 你们怎么看呢？欢迎留言和转发 。

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