【深度长文】规模大赚钱就是好公司？政府要推动最基础的大国重器(20) , 作者：尹志

刚才说没有光刻机就没有等离子体刻蚀机的微观加工，那么肯定光刻是最重要的。

但是最近从14纳米以下的情况有新的变化。就是光刻机曝光的时候，出来的不是一个很直的深孔或深沟，而是变成弯弯曲曲的形状，是和光的波长有关系。

现在我们做的尺度和波长几乎是同样数量级的，光刻出来会是弯弯曲曲的，因为有个驻波效应，一个光波打到表面反射，如果在某种特定情况下，他互相衍射形成波纹，然后你刻出来的就不对，就不是这个直筒了，就没法用。

实际上，大量生产的光刻机，只能刻出40纳米的线条。最新的光刻机叫深紫外的光刻机，EUV，就是ASML开发了新的，现在没有完全大量生产，正在进入生产。

目前最好也做到20纳米。那我为什么说14纳米是怎么回事呢？其实靠等离子刻蚀机和薄膜的组合拳把它做出来，不是靠光刻做的。如果通过光刻机刻出一个40纳米的模板，然后按这个模板刻下去，刻出一个墙，你理解它是一个重剖面。