团购|国产替代刻不容缓，这家传统材料巨头能否改变我国受制于人的局面营收|毛利率|中炬高新

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【团购|国产替代刻不容缓，这家传统材料巨头能否改变我国受制于人的局面】

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半导体产业”卡脖子“的问题大家这几年都知道了，我国在全产业链上几乎都处于劣势地位，尤其是产业链中的EDA设计软件，上游材料设备（尤其是光刻机），中游制造环节（我国最好的制造企业中芯国际与龙头台积电的技术大约差两个世代）
为了解决这个问题，国家最近几年逐渐加大投入并且已经初见成效，这其中，上游材料和设备有望第一个实现国产化突破
光刻胶是一种抗腐蚀涂层材料，主要应用于PCB、面板、半导体等领域。 2019年全球光刻胶市场规模90亿美元，预计2022年将超过100亿美元，其中PCB光刻胶占比24.5% ，面板光刻胶占比26.6% ，半导体光刻胶占比24.1% ，其他光刻胶占比24.8% 。我国国产光刻胶主要集中在PCB领域，占据国产光刻胶生产规模的95%
半导体光刻胶是芯片生产工艺中光刻工艺的关键材料，涂在晶圆表面用以得到所需的图像，光刻的线宽极限和精度直接决定了集成路的集成度、可靠性和成本。光刻工艺约占整个芯片制造成本的35% ，光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12% ， 2019年中国光刻胶市场规模约88亿人民币，预计该市场2019-2022年仍将以年均15%的速度增长，到2022年中国光刻胶市场规模将超过117亿人民币
中国光刻胶市场增速
光刻胶由感光树脂（聚合剂）、增感剂（光引发剂）、溶剂与助剂构成，光引发剂是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。感光树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。溶剂是光刻胶中最大的成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没影响。助剂通常是专有化合物，主要用来改变光刻胶的特定化学性质
光刻胶可分为负性光刻胶和正性光刻胶两类。二者在印刷线路板、面板、半导体中都有广泛应用，但是ArF光刻胶和极紫外光刻（EUV）光刻胶基本都是正胶。正性光刻胶是指在光刻工艺中，涂层经曝光、显影后，曝光部分在显影液中溶解而未曝光部分保留下来形成图像的光刻胶。负性光刻胶与正性光刻胶相反，其中被溶解的是未曝光部分，而曝光部分形成图像。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到微米级，因此正性光刻胶的应用更为普及
光刻胶应用流程
全球光刻胶行业主要被 JSR、东京应化、罗门哈斯、信越化学、及富士合理占据，前五大家占据了全球光刻胶领域的 86% 。基本被日本厂商垄断。 2019年韩日争端的时候，日本限制对韩国的半导体光刻胶出口，韩国不得不培养本地生产商。我国也面临这个问题，所以国内光刻胶市场急需进口替代
全球光刻胶市场格局
市场大，急需国产替代，许多做传统材料业务的公司开始入局。彤程新材就是其中一家
彤程新材主要从事新材料的研发、生产、销售和相关贸易业务，公司的优势是酚醛树脂和20多年高分子材料领域的研发经验，公司原本是全球最大的轮胎橡胶用特种酚醛树脂供应商，酚醛树脂占到公司7成营收，毛利率36% ，主要客户是全球各大轮胎企业
目前公司开始转型，着力发展电子材料业务，主要是光刻胶，子公司上海彤程电子2021 年累计收购科华微电子56.56%的股权，以及北旭电子 45%的股权。光刻胶是酚醛树脂的高端运用领域，收购完成后，三家公司可以完成上下游协同，上游原料进一步国产化。彤程电子还持有北京科华42.26%的股权，北京科华是唯一被 SEMI 列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司
彤程新材在光刻胶产业链上游有一定技术积累
公司在上海化工区投资建设年产 1.1 万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目