14nm够用了?龙芯总设计师公开发声,却被网友称是不思进取

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龙芯总设计师公开发声芯片纳米制程在不断进步 , 从90nm到28nm , 再到14nm、8nm、7nm还有更高的5nm等等 , 这些制程工艺的每一次进步 , 都是人类对科技探索的新高度 。 也正是在科技的发展下 , 人们才能实现更好的智能化生活 。
14nm够用了?龙芯总设计师公开发声,却被网友称是不思进取文章插图
可是这些不同工艺的芯片又有哪些区别呢?区别非常大 , nm制程度越低 , 性能就越好 。 运行在各类产品上 , 也有更出色的表现 。 按理说制程度应该是越低越好 , 甚至巴不得突破5nm , 3nm , 可是龙芯总设计师胡伟武却有不同意见 。
【14nm够用了?龙芯总设计师公开发声,却被网友称是不思进取】胡伟武是中科院研究员 , 同时也是国产芯片龙芯的总设计师 , 胡伟武在接受媒体采访的时候表示 , 14nm够用了 , 90.9%的应用都够了 。 既然14nm已经够用 , 那么就应该发展系统优化 。
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胡伟武公开发声 , 表示14nm够用了 , 乍一听似乎觉得不太对 , 别人在大力发展5nm , 攻克3nm的时候 , 难道我们只能选择相对落后的14nm吗?对此胡伟武的发声被网友称是不思进取 。
其实仔细分析胡伟武的话 , 就知道他并没有表示要放弃高端纳米的研发 , 而是适应国内大部分电子产品的需求 。 必须冰箱、遥控器、空调等电器 , 甚至都不需要14nm 。 放在芯片市场上 , 需要使用到高端芯片产品的除了手机芯片处理器以外 , 很少有场景用到5nm 。
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如果在这样的情况下 , 一个劲死磕我们暂时不那么急需的领域 , 到底有没有必要呢?胡伟武说过 , 国产芯片想要彻底不被卡脖子 , 至少还需要两个十年 。 也就是十年时间 , 在十年后 , 才能不被彻底限制芯片 。
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真正该努力的方向很显然 , 胡伟武的意思是当下14nm可以满足大部分生产需求 , 哪怕被卡脖子 , 也有自己的生产能力 。 比如国产的代工企业中芯国际就进入14nm制程工艺 , 不仅是14nm , 中芯国际相当于7nm的N+1工艺也完成了流片和测试 。
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那么真正该努力的方向是哪些呢?其实除了胡伟武所说的系统优化以外 , 还有人才培养、基础关键设备 。
在这些领域 , 我们已经开始努力了 。
首先是人才培养 , 不管是缺技术还是缺资源 , 都不如缺人才 。 在人才培养方面 , 我国成立了南京集成电路大学 , 专门为国内半导体行业输送大批人才 。 给社会、国家、企业提供高质量的顶尖人才 。
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在芯片行业可能诞生出一位顶尖人才 , 就能改变行业的局势 , 所以人才培养很重要 。
还有基础关键设备 , 这方面涉及到了光刻机 , 光刻机是生产芯片的必需 , 尤其是高端芯片 , 更是需要EUV光刻机 。 虽然目前还没有达到EUV光刻机的高度 , 但中科院已经宣布要布局光刻机 , 这也意味着会朝着这一方向继续努力 。
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这些真正该努力的方向其实很明确 , 芯片制程针对目前国内的情况而言 , 14nm确实能满足大部分的日常需求 , 总不可能一台空调 , 一个冰箱还要采用5nm制程 , 那样就太不现实了 。
所以胡伟武指出14nm够用的情况并非没有道理 , 但这并不意味着会停止芯片发展的脚步 。 恰恰相反 , 我们会在更先进的技术 , 系统方面做出努力 。
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总结胡伟武身为龙芯总工程师 , 对国内芯片行业自然有非常透彻的看法 。 肯定不会止步于14nm , 当下而言确实足够 , 但面对未来 , 芯片更高的工艺水准 , 是各国都会参与竞争的领域 。
我国在人才培养 , 光刻机上的布局也是为了这一点 , 该如何在未来的芯片市场上取得优势 , 还得看未来十年内的变局了 。 值得庆幸的是 , 我们已经开始了准备 , 也希望国内科技企业能一起参与进来 , 一起朝着更美好的未来前进 。
你认同胡伟武的说法吗?欢迎在下方留言分享 。