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芯片制造是一项繁琐 ， 复杂的过程 ， 大家只知道光刻机对芯片制造十分重要 ， 可实际上光刻胶材料也是芯片制造中不可或缺的 。 日本掌握光刻胶核心市场 ， 多年来占据垄断地位 。 一旦日本光刻胶供应紧张 ， 会对供应链造成连锁反应 。
好在国产光刻胶厂商上海新阳传来好消息 ， 其正式官宣 ， 公司已有ArF光刻胶产品 。 上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？
上海新阳正式官宣国产芯片供应链是相对完善的 ， 很多关键的产业链环节在国内都可以找到 ， 涉及芯片设计、光刻机四大件供应商和整机光刻机制造商 。 除此之外 ， 在半导体芯片材料方面 ， 国产光刻胶也有多家厂商参与其中 ， 比如上海新阳就是其中之一 。
上海新阳主营晶圆超纯化学材料产品 ， 也就是光刻胶 ， 除此之外上海新阳还在开拓氮化硅蚀刻液 ， 掌握诸多核心技术 。
值得一提的是 ， 上海新阳在去年3月8日发布公告称 ， 购得了一台ASML-1400光刻机设备 ， 对加速研发193nmArF干法光刻胶产品有诸多益处 。
时隔一年 ， 相信上海新阳已经凭借这台光刻机获得了不小的研发进展 ， 那么上海新阳有何突破呢？根据上海新阳回答提问得知 ， 该公司已经掌握了ArF光刻胶产品 ， 受各方面影响认证进度较慢 ， 但已有部分光刻胶产品获得订单 。
这句话的重点是掌握ArF光刻胶产品 ， 在光刻胶产品市场中 ， 有分为g线、i线、KrF和ArF等光刻胶品类 ， 最高端的则是EUV光刻胶 。
作为芯片制造时用于涂抹晶圆硅片的重要化学材料 ， 可以起到保护衬底基座的作用 ， 对芯片制造非常重要 。 只不过在这些产线中的光刻胶产品 ， 一直被信越化学、东京应化、富士胶片等诸多日企掌握垄断地位 。 就连台积电也需要大量从日本采购光刻胶材料 。
尤其是ArF光刻胶 ， 更是重中之重 。 有一定了解的人都知道 ， ArF光刻胶产品可以用在90nm到14nm甚至是7nm工艺节点的芯片制造工艺 。
如果攻克高端ArF光刻胶核心技术 ， 那么将占据芯片制造产业链市场的关键地位 。 现在台积电、中芯国际、三星等芯片制造商都在加紧芯片制造产能 ， 纷纷扩建 ， 新建芯片工厂 。
未来对光刻胶的需求还会更大 。 而这时候 ， 上海新阳传来消息 ， 正式官宣掌握了ArF光刻胶 ， 无疑是件喜事 。 既然知道了光刻胶的作用和市场地位 ， 那么上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？
已有ArF光刻胶产品意味着什么？大家对上海新阳的了解可能并不是很多 ， 但只要有关注国产光刻胶的发展情况 ， 上海新阳都是不可忽视的 。
该公司开展多个重要的光刻胶研发生产项目 ， 面向高端也有展开布局 ， 而这些布局 ， 很大层面上是靠ArF光刻胶展开的 。 国产芯片正值产能加速之际 ， 中芯国际手中还有三大芯片工厂建设项目 ， 以及长江存储 ， 闻泰科技等诸多巨头纷纷加快半导体动作 。
而现在上海新阳已有ArF光刻胶产品 ， 意味着对国产芯片制造产业将起到加速自主化的作用 。
而且上海新阳的这项ArF光刻胶产品事关国产7nm芯片 ， 前面提到ArF光刻胶可用于7nm工艺节点 ， 我国在7nm芯片制造产业链中并非没有布局 ， 甚至还下探到了更先进的5nm 。
比如中微半导体的刻蚀机就可成功刻蚀5nm芯片 ， 在芯片设计层面也有一些国产5nm订单作为需求支撑 。
所以上海新阳将来如果能彻底攻克7nm制程节点的ArF光刻胶 ， 必然有利于国产7nm芯片的发展 。 解决了一个问题 ， 再去解决第二个 ， 第三个 ， 按这种趋势发展下去 ， 迈入最终一步也并非不可能 。
国产光刻胶的发展状况虽然上海新阳并没有透露已有的ArF光刻胶是处在多少纳米水准 ， 也许是55nm ， 也许是28nm ， 甚至是14nm都有可能 。 如果情况再好一些 ， 上海新阳又取得了重大科研进展 ， 触碰到7nm ArF光刻胶也未必没有可能 。
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