耗时7年克服难题，打破长期垄断，有望造出最先进光刻机光刻机制造难度大、技术门槛高

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光刻机制造难度大、技术门槛高，严重卡住了我国芯片产业的脖子，拖慢了国产芯片的脚步。为了打破这一困境，中科院已经表态将举全院之力，攻克光刻机难题。不过，想要突破并非一件易事。
上世纪60、70年代，是国产光刻机发展的黄金时期，多所院校、科研机构都投身光刻机研制。可惜的是，还没等国产光刻机赶上世界水平，我国光刻机研发便在“造不如买”思想影响下，逐渐搁置。
好在如今我国重新意识到了光刻机的重要性，将再次起步。而且，我国已经在光刻机局部技术上有所成就，可以更快起步。
作为中国第一个光学领域研究所的长春光机所，前段时间时间传来好消息。经过7年的攻坚克难，在今年8月份，由其承担的国家重大科研仪器设备专项“1.5米扫描干涉曝光系统”项目，成功验收。
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这表示，我国又打破了一项海外的长期垄断，我国拥有了独立制作米级单体无拼缝全息光栅能力，并且最大面积达到了650mm×1700mm ，令人瞩目。
据悉，这项项目的成功突破，对我国高端光刻机、可控核聚变等多领域的发展，具有十分重要的意义。我国在光刻机领域的研发，得以更近一步。
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此前，长春光机所还实现了13.5nm波长极紫外光，成功建设EUV光刻曝光装置，意义也十分重大。
此外，在光刻机双工件台技术上，我国也有卓越表现。成立于2012年的华卓精科，经过多年努力，终于成为继ASML之后，全球第二家掌握光刻机双工件台技术的企业，打破了海外长期以来的垄断，也打破了外国人对中国的偏见。
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华卓精科创始人清华大学教授朱煜，在2006年时，他便带领团队参加了“02专项” 。其研制的α样机，成功获得了验收。这也是“02专项”光刻机项目中，第一个通过验收，令人瞩目。
【耗时7年克服难题，打破长期垄断，有望造出最先进光刻机】在华卓精科的助力下，作为中国唯一光刻机巨头的上海微电子也得以迅速发展。 2021年，上海微电子28nm浸没式光刻机有望问世，其所采用的光刻机双工件台，便是来自于华卓精科。
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在众多企业、科研机构的共同努力下，未来中国企业将有望造出中国最先进的光刻机，由此，中国芯片产业也将少一大短板，从而最终实现自主、可控！