「光刻机」西方阻碍失败，我国突破光刻新技术，全球分辨率最高的光刻新装备诞生光刻机

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在光刻机的世界里，强者生存，弱者淘汰，然而光刻机的制造，时间、金钱、技术都使制造一个好的光刻机必不可少的条件，所以才有了美国为日本铺路，日本的壮大ASML在光刻机市场称霸，很显然，西方的技术比我们先进，并且也有很多技术在世界上可以说是处于领先水平，东方的中国由此放弃了吗？其实并没有，我们把这个压力转化为了动力，虽然有些先进理念技术和装备我们没有办法在外获取，在这种压力下，我们的科研人员不放弃，自主研发向前进了一大步，现在我们的科研技术在一步步壮大，与西方之间的距离正在一步步的缩小，有了不小的科研成绩。
不久前，由中国科学院光电研究所研究的我国的第一台国产光刻装备诞生，其性能分辨力最高，运用了紫外线超分辨，光刻分辨力可达22纳米，结合多重曝光技术之后还可做出10纳米级别的芯片，这不仅证明了我国的科研实力，也是我国在芯片发展上上了一个大的台阶。我国的科研人员在光刻机研究上，打破了传统的固有思维，形成了一条新的思维路线具有完全的自主产权。
首个高分辨紫外超分辨光刻机，是整个媒体界为之疯狂，中国光刻机终于突破了西方的限制，而我们的成功也给西方某些国家带来了不小的压力，据悉，在我国光刻机技术理念装备等不成熟时，只能在外引进光刻机使用，更甚至在西方的阻碍下，我国与荷兰某公司签署的《关于EUV光刻机购买合同》也就只能搁浅，这一阻碍给我国某些任务造成了不小的损失。
【「光刻机」西方阻碍失败，我国突破光刻新技术，全球分辨率最高的光刻新装备诞生】正是在这样的环境下，我国下定决心搞光刻机研究技术，不再受他们的制约，而见我国的光刻机技术日渐成熟之后，荷兰某公司又改变主意，迫切的想与我国建立合作关系，据知情人士透露，就算合作再次受到阻碍，他们也会把EUV光刻机卖给中国，当然，他们做出这样选择也并不让人意外，为了自己的利益，我国刚研发出较为先进的光刻机，一旦错失合作良机，将会是一笔不小的损失，毕竟这个社会是物竞天择，优胜劣汰，只不过我国的光刻机研究刚刚成熟，两方合作能否达到他们所需的利益，还未可知。