流光年华|继蚀刻机全球领先后，高能离子注入机打破垄断！光刻机也开始合围【科技强哥说】

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大家都知道，我国的芯片主要依赖进口，每年的芯片进口额度超过了石油，在进口商品中位列第一。世界上每生产5块芯片，中国就买走了3块。而芯片生产主要包括设计和制造，芯片设计我国已达到领先水平，关键就是制造落后。而芯片制造中设备是关键，其中包括光刻机、蚀刻机、离子注入机等等，这些设备我们都在研发突破，下面带大家了解下这些设备国产化进展。
蚀刻机已达到全球领先光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端芯片，这两个设备都必须顶尖。相对光刻来说，刻蚀相对简单，但要将精度提升到5nm ，那也是相当不容易的。我国在蚀刻机领域已经突破，中微半导体的5nm蚀刻机已通过台积电验证，并将用于今年的5nm芯片生产。中微的5nm蚀刻机，可以说是继华为5G之后，完全自主研发的顶尖技术。
国外曾经将蚀刻机列入禁止出售我国行列，但在中微突破之后，立即取消限制并大幅降价！现在，中微半导体可以自主生产5nm蚀刻机，达到世界领先！这一切其实都要致敬中国第一代科研人一一年近60岁的尹志尧博士，带领众多优秀海归人才，回国创办了中微半导体，在团队对科技的不断探索下，短短10多年的时间，就攻破了5nm蚀刻机的瓶颈，让中国科技再一次实现了反超越！
高能离子注入机又突破离子注入机是芯片制造中仅次于光刻机、蚀刻机的关键装备。那么离子注入机在芯片制造过程中起什么作用呢？芯片制造时，需要掺入不同种类的元素按预定方式改变材料的电性能，这些元素以带电离子的形式被加速至预定能量并注入至特定半导体材料中，离子注入机即是执行这一掺杂工艺的芯片制造设备。
而今天我们要介绍取得突破的是高能离子注入机，这是离子注入机中技术难度最大的机型。长久以来，因其极大的研发难度和较高的行业竞争壁垒，被称为离子注入机领域的 “珠穆朗玛峰” ，是我国集成电路制造装备产业链上亟待攻克的关键一环。
近日喜报传来，新华社报道，中国电子科技集团宣布，由该集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功，实现百万电子伏特高能离子加速，性能达到国际先进水平。将在年底前推出首台高能离子注入机，并可以为全球芯片制造企业提供离子注入机成套解决方案。
高端光刻机也开始合围【流光年华|继蚀刻机全球领先后，高能离子注入机打破垄断！光刻机也开始合围】光刻机是芯片制造中最关键的设备，而高端光刻机现在被荷兰垄断，也就是所说的EUV光刻机。由于我国受到《瓦森纳协定》的限制，很多高端技术被封锁，光刻机也是其中之一，再加上米国的限制，中芯国际2018年底全款订购的一台EUV光刻机，按计划应于去年底到货，到现在依然没有！不过，我国上海微电子也很争气， 28nm光刻机预计明年出货，以前生产的90nm光刻机也是我国的中流砥柱，因为大部分的芯片不用那么高精度，这样我们的国防设备和大部分电子工业已经能够满足！