流光年华|继蚀刻机全球领先后，高能离子注入机打破垄断！光刻机也开始合围( 二 ) 【科技强哥说】

但我们依然在向高端EUV光刻机进军，因为高端手机和先进的5G依然会用到。其实，我国在EUV光刻机上的技术积累已是超过20多年了，别以为今天是仓促应战的！现在已经开始向EUV领域展开全面合围，哈工大研发成功EUV光源，华卓精科突破双工件台，国旺突破光学镜头，极紫外光刻（EUV）关键技术研究在长春光机所通过验收。这些都表明，我国的高端光刻机正在突破，造出EUV光刻机不是没有可能！
结语：原来由于“造不如买”的错误认识，加上国外对我国的技术封锁，导致我国在芯片行业的落后。直到国外的不断“卡脖子”封锁，我们才意识到掌握核心科技的重要。然而因为欠帐太多，并且国外已经发展多年，我们想要追赶，连市场验证的机会都很小。现在因为米国的制裁加剧，我国芯片行业各领域迅猛发展，不断加强自主研发，差距正在逐渐缩小，只要有信心，一切皆有可能，因为我们已攻破了太多西方认为不可能的科技了！
那么，大家觉得我国现在的芯片行业发展的怎么样，有没有信心反超越呢？
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