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\">芯片制造一直遵循传统的生产方式 ， 采用光刻机造出一颗颗精密的芯片 。 唯一的区别就是光刻机波长和制程的变化 。 从第一代g-line光源开始 ， 到目前最先进的EUV设备 ， 波长已经压缩到13.5nm 。
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不管如何变化 ， 使用光刻机造芯片已经是司空见惯了 。 但日本企业似乎研制出新的技术 ， 或要采用该技术实现逆袭 。 这是什么技术呢？能否量产5nm芯片？
芯片制造新技术世界各国都开始加快芯片制造产业的步伐 ， 从微米到纳米 ， 从90纳米到现在的5纳米制程时代 。 而且芯片制造商还在突破 ， 芯片巨头联发科已经发布了4nm天玑9000芯片 ， 未来恐怕还将取得更大的突破 。
这一切的突破其实都离不开光刻机 ， 只有通过光刻机的曝光 ， 才能将设计好的芯片电路图刻制在晶圆上 ， 从而分割成一块块芯片 。
因此光刻机成为了芯片制造不可或缺的设备 ， 但光刻机的劣势也很明显 。 设备过于笨重 ， 一台EUV光刻机重达180吨 ， 由10万个零部件组成 ， 生产难度非常高 。 还有耗电量也是十分惊人的 ， 一台EUV光刻机一天就能耗电3万度 。
未来发展的是清洁能源 ， 很明显 ， EUV光刻机虽然十分先进 ， 但并不环保 。 最重要的是 ， 摩尔定律已经接近极限 ， 如果EUV光刻机无法突破更先进的技术 ， 芯片制造产业该如何发展？
在这样的情况下 ， 日本企业出手了 ， 又一芯片制造新技术诞生 ， 怎么回事呢？
据日媒介绍 ， 日本要用“纳米压印”技术实现逆袭 ， 铠侠、佳能、大日本印刷最早会在2025年将这一技术实现实用化 。
这项技术也就是纳米压印 ， 从字面意思来看 ， 是通过纳米级别的技术 ， 对相关芯片线路图以压印的方式实现芯片线路图曝光 。 原理就好比用一枚印章在纸张上印字 。
原理看似简单 ， 但实现起来估计也不是那么容易的 。
大致情况是先准备压印设备 ， 然后通过紫外线照射的方式 ， 把掩膜上的芯片线路压印至光刻胶 。 经过光刻胶的涂抹和衬底作用 ， 最终将完整的芯片线路图弄到硅基晶圆中 ， 在把晶圆切割成芯片 。 整个的纳米压印技术基本上就是如此 。
说起来简单 ， 但做起来却不是一时半会能够完成的 。 日企提出了这项技术 ， 并计划在2025年实现 ， 很大程度说明日本半导体打算重振芯片制造产业链 。
日媒还提到 ， 世界各国半导体厂商也在关注纳米压印 ， 但由于日企掌握相关设备和原材料 ， 因此暂时走在前头 ， 一旦实现实用化 ， 也是世界首次 。
理论上而言 ， 纳米压印技术确实有望实现芯片制造 ， 如果到时候相关设备生产成功 ， 取代光刻机也未必不可能 。
纳米压印技术的优势芯片制造发展了几十年 ， 人类从研发出微电子处理器以来 ， 也有半个世纪的历史了 。 自从日本佳能 ， 尼康以及ASML掌握光刻机制造技术后 ， 全球半导体行业就没有使用光刻机以外的设备曝光芯片 。 在芯片的曝光环节 ， 必须用上光刻机 ， 这已经成为行业的共识 。
然而日本提出了纳米压印技术 ， 或许提供了新的方向 。 虽然不知道最终能否成功 ， 但如果不去尝试 ， 永远都不知道 。
【centos|取代光刻机！又一芯片制造新技术诞生，可量产5nm芯片？】
科技之所以能够发展 ， 就是在不断探索中前行 。 行业共识可以打破 ， 芯片既然是人造的 ， 又有谁规定必须使用一种技术造芯片 。 因此纳米压印的诞生将创造无限可能 ， 其带来的优势也很明显 。
第一：纳米压印可以降低成本和节省能源消耗 。
传统的光刻机由于其生产步骤封锁 ， 工序繁多 ， 操作起来也十分不易 。 一台EUV光刻机价值高达1.2亿美元 ， 且对电力 ， 水资源和工厂占地面积都有很大的要求 。 但纳米压印可以更好的降低成本 ， 降幅大约可达40% ， 耗电量降低90% 。
稿源：(未知)
【傻大方】网址：/c/112EKD92021.html
标题：centos|取代光刻机！又一芯片制造新技术诞生，可量产5nm芯片？