第二：芯片生产效率提高 ， 可推进半导体产业链的进一步发展 。
纳米压印技术设备可以更好的实现大规模量产 ， 待技术成熟之后 ， 年出货量肯定比EUV光刻机高 。 这可以大大提升芯片生产效率 ， 并推进半导体产业链的进一步发展 。 相关的供应商能获得更多的产业机会 。
由此可见 ， 日企的纳米压印技术确实存在一定的行业市场空间 。 支持15nm制程的芯片压印 ， 未来还会进行更高的工艺推进 。

这让人产生一个问题 ， 如果要达到EUV光刻机的层次 ， 就得生产出相应制程的芯片 。 那么纳米压印技术能否支持5nm芯片量产呢？
在相同原理的情况下 ， 充分运行更细微的纳米压印技术 ， 或许也能在高端芯片中取得一定的突破 。 当然 ， 这只是理论上的验证 ， 实际情况如何 ， 能不能量产5nm ， 有怎样的产业未来等等一系列的问题 ， 都需要时间观察 。

总结芯片发展到5nm ， 4nm甚至是3nm ， 再往下发展 ， 芯片制造产业还会有无限的未来和可能性吗？谁也不知道答案 。 但如果换一条路出发 ， 用全新的芯片制造方式开辟未来 ， 也许值得一试 。
你认为纳米压印技术是否可行呢？

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稿源：(未知)

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标题：centos|取代光刻机！又一芯片制造新技术诞生，可量产5nm芯片？( 二 )