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近段时间大家对芯片制造设备光刻机情有独钟，有关它的信息也连续不断。如果能拥有一台高端的光刻机，我们就能制造出高端芯片吗？其它制造芯片的设备、材料和技术就不受限制吗？答案当然不是，芯片制造工艺、其它制造核心设备、材料都是芯片制造的关键。

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拥有光刻机不一定能制造芯片，科技基础、技术人才是首位
【 芯片|有光刻机也制造不出芯片芯片制造设备有“四大金刚”】如今芯片的制造工艺不能简单看成是14nm、7nm、5nm或3nm，晶体管的最小体积总有一个限度。在临近物理极限时，需要的芯片制造工艺也会达到一个极限难度。三星、英特尔为何跟不上台积电的步伐，是因为缺少一台高端的光刻机吗！
在2019年年底，中芯国际实现了14nm芯片的制造工艺。其中实现技术突破的关键人物就是梁孟松，在他加入中芯国际不到一年就打破了芯片制造工艺僵局。梁孟松曾先后在台积电、三星担任过技术高管，技术毋庸置疑。

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在梁孟松加入中芯国际之前，中芯国际在2015年就实现了28nm芯片的制造工艺。之后三年为何没有突破，一个是缺乏关键的技术人才，另一个是工艺与物理极限挑战难度在不断提高。
晶体管不断接近物理极限，也让个别芯片制造商望尘莫及。譬如格芯就宣称放弃了7nm以下芯片制造工艺的研发。背后隐含着研发经费高，并且前有三星、台积电领先。
那我国是不是也跟随格芯呢！其实不然，芯片制造对我国而言首先考虑的不是盈利问题，而是完善半导体产业生态的问题。从科技战略上讲半导体产业是未来科技支撑的基石，必须由自己掌握。
芯片制造设备有“四大金刚”，不是只有光刻机
光刻机、离子注入机、刻蚀机和薄膜沉积设备被称为集成电路制造的“四大金刚”。在芯片制造成本中占比很高，同时设备技术含量也很高。在这些设备中刻蚀机近两年已经步入国际先进水平行列。
近日，北京中科信电子装备有限公司自主研制的高能离子注入机，成功实现了百万电子伏特高能离子加速，其性能达到了国际先进水平。

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离子注入是晶圆片光刻后将离子束注入到硅材料表层，达到改变材料表层物理特性的工艺。
离子注入机行业中，2019年美国应用材料和Axcelis公司共计占到全球70%的市场份额。

稿源：(动次大次嘚儿)

【傻大方】网址：http://www.shadafang.com/c/111J300492020.html

标题：芯片|有光刻机也制造不出芯片芯片制造设备有“四大金刚”