各位对于我国芯片研制这一个领域的了解，是否还停留在7纳米这个工艺上呢？毕竟我们从某种意义上来说，到现在也没有取得7纳米芯片的生产工艺，只不过我国中芯国际他们采用的n+1以及n+2工艺所生产出来的芯片能够与7纳米生产出来的芯片，进行一定的比较。但从实际意义上来说，我国5纳米的芯片其实也取得了一定的成就。


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今天要给大家说的就是华为、中兴这两个企业共同发力5纳米中国芯片将诞生，最大的问题就是如何打破生产制造困境。中国能够研制出5纳米芯片的生产是一个困境，是因为我国到现在也没有正正经经的7纳米芯片的生产工艺，更不要说比7纳米芯片更先进的5纳米芯片的生产工艺了。

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据相关信息显示，中兴通讯他们的5芯片预计在2021年的时候推出，但是中兴通讯与我国的华为公司都面临同一个问题，那就是他们需要有一个比较靠谱的代产商。在以前的时候我们可以找台积电代为生产，但是现在美国宣布了他们的新公告限制境外企业为中国提供服务之后，我国的芯片生产也陷入了一个困境。


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虽然说在美国宣布了这个公告之后，我国的中芯国际获得了技术上的突破，但是这也不能够让我国能够顺利地生产出5纳米的芯片，所以我们还是要求助于其他国家。我们也应该知道救助其他国家只是一时的办法，如果我国要想在芯片验证领域持续发展，那么我们就需要进行自主研发让我国的先进芯片能够顺利的生产，而让芯片能够顺利生产的主要技术之一，那就是光刻机，所以我国最应该突破的是光刻机的生产。


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而光刻机的生产不是我们说突破就能够突破的，它的生产极为复杂想要生产出性能良好的光刻机他所要耗费的软件达到了上万个，并且这些软件并不是来自同一个国家，所以我国在光刻机的研制这一个领域，还有特别长的一条路要走。【 芯片|华为、中兴共同发力，5纳米芯片将诞生如何打破生产制造困境】好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

稿源：(小猪猪雪晴)

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标题：芯片|华为、中兴共同发力，5纳米芯片将诞生如何打破生产制造困境