近日，据外媒报道，以三星为代表的韩国企业在EUV光刻技术研究方面取得了长足的进展。根据对韩国知识产权局(KIPO)过去十年(2011-2020年)的EUV相关专利统计，在2014年增加88项，2018年为55项，2019年为50项。

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??值得注意的是，韩国企业在EUV光刻技术上一直缩小与全球最高水准的差距，在韩国知识产权局2019年收录的50项专利里，有40项都是由韩国人提交的。这也是韩国人在提交专利的次数上，首次超过其他国家人员。
??EUV光刻技术整合了多种先进技术，包括多层反射镜、多层膜、防护膜、光源等。在过去十年内，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术领先。
??今年，以台积电和三星电子为代表的芯片代工，已经开始使用5nm?EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器。
??按照公司在韩国申请专利的数量来看，卡尔蔡司、三星电子、ASML占据前三位，分别占据18%、15%、11%。
??按照技术划分来看，处理技术、曝光技术和膜技术的专利申请数量分别达到32%、31%、28%，分列一、二、三位;剩余其他技术占据9%。
【 研究|专利数量大增 韩国企业发力EUV光刻技术研究】??随着，科技不断发展，芯片制造技术已经达到5nm制程，使得全球对于光刻机以及光刻技术的需求变得更加强烈，面对广阔的市场环境，各国也开始在该领域展开了“军备竞赛”。

稿源：(天极网)

【傻大方】网址：http://www.shadafang.com/c/111J2L302020.html

标题：研究|专利数量大增 韩国企业发力EUV光刻技术研究