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尽管日本的科技比较先进 ， 但是日本国内并无法自产芯片 。 毕竟能够生产芯片也就台积电 ， 中芯国际 ， 三星 ， 意法半导体等等这几个公司 。
也就是说 ， 日本的芯片产业等于零 。 当然 ， 说日本的芯片产业等于零 ， 只是基于日本并没有一家可以生产芯片的公司 。
但是 ， 在生产芯片的各型设备上 ， 日本也算是数一数二的供应国 。 从这个层面来说 ， 日本又是芯片大国 。
如尼康和佳能生产的DUV浸没式光刻机；日本合成橡胶 ， 东京应化 ， 信越化学生产的光刻胶；有lasertec制造的光掩膜设备 ， screenhd制造的芯片清洗设备 ， 东京精密制造的晶圆检测设备 ， disco制造的晶圆切割设备 。

【蚂蚁森林|日本的芯片技术在世界上是什么水平？】由此可见 ， 日本在芯片生产的整个流程中 ， 基本上都可以生产各种设备 。 虽然不是垄断着各型设备 ， 但是在供应上占着不小的份额 。
比如说:在2020年全球浸没式DUV光刻机出口上 ， 尼康和佳能占据了全球38%的份额 。 其中ASML出口了258台 ， 佳能出口了122台 ， 尼康出口了33台 。 但是在极紫外EUV光刻机上 ， 都是ASML的出口的 。 毕竟目前 ， 也只有ASML可以制造出极紫外EUV光刻机 。
虽说 ， EUV光刻机 ， 可以满足的制成程工艺 ， 要比DUV光刻机好不少 。 但是 ， 并不是所有得的芯片都需要EUV光刻机来制造 。 如汽车所用芯片 ， 工业所用芯片， 军用芯片 ， 宇航芯片 。
由此可见尼康和佳能这两个公司 ， 制造的浸没式DUV光刻机还是有很大市场的 。
当然了 ， 尽管尼康和佳能暂时制造不出来EUV光刻机 ， 但是不代表以后不能 。

事实上 ， 关于制造EUV光刻机所需要光源等设备 ， 日本也有在研发 。
如日本的高能物理研究所在研发EUV光源 ， Gigaphoton公司好像有了可以实用的EUV光源 。 所以说 ， 在EUV光刻机的光源上 ， 日本是有技术可以制造出来的 。
毕竟浸没式DUV光刻机 ， 所需要的镜头 ， 和EUV光刻机不同 。
浸没式DUV光刻机需要的是透镜组 ， 而EUV光刻机需要的是反光镜组 。 对这种反光镜的表面粗糙度要求极高 ， 表面镀了好多层有由钼和硅薄膜 ， 表面粗糙度达到0.05纳米 。
不过 ， JTEC株式会社也可以研发出EUV光刻机所需要的反光镜 。 该公司可以提供最大直径为1米反射镜 ， 其形状误差为±1纳米 ， 粗糙度可以低于 0.1纳米 。

不过在工件台上 ， 并不清楚哪个日本企业在研发 ， 尼康和佳能公式生产的浸没式DUV光刻机的工件台也不知道是哪个公司研发的 。 不过 ， 基于日本拥有较为领先的控制技术 ， 测量技术 ， 精加工技术 ， 研发出EUV光刻机所需要双工件台也是可以的 。
由此可见 ， 在EUV光刻机领域 ， 日本也是具备研发的潜力 ， 只不过不清楚尼康和佳能在EUV光刻机上 ， 被ASML拉开了较大的差距 。
而在蚀刻机上 ， 日本的东京电子公司占全球市场的26% ， 仅次于美国的应用材料 ， 泛林半导体 。 而在EUV光刻胶上日本的合成橡胶 ， 东京应化 ， 信越化学这三大公司的产品占据了90%的市场 。
所以说 ， 在芯片制造产业链上 ， 日本企业还是具备相当的实力 。

当然 ， 有了各种设备之后 ， 想要生产芯片也不是那么容易的 。 其中制程工艺的突破 ， 还是需要相关的人才开完成 。
目前7纳米以下的制程工艺 ， 也只有三星和台积电掌握 ， 就连英特尔也在极力突破7纳米制程工艺 ， 更别说现在的5纳米 。
比如说:台积电从28纳米制程工艺突破至20纳米 ， 用了3年时间；从20纳米突破至7纳米 ， 用了3年时间；从7纳米突破至5纳米 ， 又用了3年时间 。
也就是说 ， 台积电用了进将近10年的时间 ， 才让芯片的制程工艺从28纳米突破到5纳米 。
三星从28纳米制程工艺突破至20纳米 ， 用了2年时间；从20纳米突破至7纳米 ， 用了3年时间；从7纳米突破至5纳米 ， 也用了3年时间 。

也就是说 ， 三星用了进将近9年的时间 ， 才让芯片的制程工艺从28纳米突破到5纳米 。
综合来看 ， 芯片制程工艺的突破 ， 并不是有光刻机就可以高枕无忧的 。 毕竟芯片是由多层堆叠而成的 ， 可不是一层而已 。

稿源：(赤色耀大地)

【傻大方】网址：http://www.shadafang.com/c/11109535422021.html

标题：蚂蚁森林|日本的芯片技术在世界上是什么水平？