阿斯麦尔|EUV光刻机，外媒：ASML开始“中企化”了光刻机

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对于ASML这家光刻机公司，想必大部分人也是近些年才有所了解，但其实ASML已经成立了三十多年，可以说是与华为、台积电等同时代的公司。
ASML从一家小公司成功实现突破，是从DUV光刻机开始的，关键是ASML采用了浸润系统，和拥有独家的双工件台。
使得ASML的DUV光刻机不仅可以支持更先进的工艺，而且产能也更高。

但这并没有奠定ASML的龙头地位， EUV光刻机的出现，才使得尘埃落地。
不过EUV光刻机的成功，却并非是ASML一己之力来完成的， EUV光刻机涉及到两个核心系统，其一是光源系统，其二是物镜系统。
在光源系统上，由于其技术来自美，所以ASML就受到了美修改芯片规则的影响，因此迟迟无法出货中企。

不过近日有外媒表示， ASML一直在想办法解决问题，其表示ASML已经开始了“中企化”进程了。
上面我们谈到， EUV光刻机的两大核心系统上，美技术占据的主要是光源部分，实际上这部分主要是ASML收购了美企Cymer结果。
而另一大核心系统物镜系统上，媒体已经关注到， ASML开始积极拥抱中企了。

物镜系统并不是简单的叠加几片镜片那么简单，其中还需要用到一些核心的零部件。
【阿斯麦尔|EUV光刻机，外媒：ASML开始“中企化”了】例如用于物镜系统的MEMS芯片， MEMS是一种非常特殊的工艺，其制造难度不亚于台积电具有优势的如3纳米技术。
在ASML的EUV光刻机上，其物镜系统的MEMS芯片就采用了中企的产品，来自赛微电子。

目前赛微电子是全球最大的MEMS芯片供应商，而且掌握了全球独家的用于5纳米及以下技术的光刻机MEMS芯片技术。
而光刻机的本质，实际上就是对光的利用，这也是最重要的部分，即如何将光源产生的光，用于雕刻成设计所需要实现的电路。
这也是物镜系统的重要作用，其中就需要一个核心零部件，即光场匀化器，只有加入光场匀化器，才能得到理想的光线，来雕刻出理想的电路。

也就是说，光刻机中光源发射出来的光，并不是可以直接被利用的，它需要经过相关的加工。
而这部分，中企炬光科技的产品，也已经应用到ASML的光刻机当中，此外，在ASML的光刻机中，炬光科技的晶圆退火产品也已经被采用。
可以看到， ASML已经在光刻机的核心系统上，逐渐加入了中企供应商，甚至在EUV光刻机上，也出现了中企的身影。

毫无疑问，如果ASML在核心零部件上做到了“中企化” ，那么就有望实现对中企的出货，这对ASML来说具有很现实的实际意义。
因为对比来看，中企已经逐渐成为全球的最大买家，而且目前中企客户也已经成为ASML的最大客户。
ASML的出货占比中，中企的占比已经达到了34% ，其他芯片设备国际供应商的情况也大体相似，基本都超过了30% 。

所以对于ASML来说，出货中企已经成为一个必选项， “中企化”或许是一条可以实现出货的出路。
就在前段时间，国内头部媒体就报道称， ASML开始大幅扩招中国团队，而大陆也罕见的成为了其最大客户。
所以可以看到， ASML的这一布局已经在加速了，那么对此大家怎么看呢？欢迎留言、点赞、转发。