芯片|不需要EUV光刻机，关于国产7nm，梁孟松再次表态纳米|中芯国际|梁孟松|it芯片

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一枚小小的芯片，承载着科技发展的千钧重担，随着时光的飞逝，随着时间的推移，高端芯片在国际舞台上愈加光芒四射。我国，普遍正在成熟制程上面发力，但是，我国难道不知道，高端芯片是未来科技发展潮流吗？当然不是，这都是外部环境下无奈的妥协。

中华民族千百年来的自强不息，注定我国不可能就此沉沦，在高端芯片的高峰上，我国依旧还在不断攀登。中芯国际，作为我国大陆代工企业的龙头，承载起了中国芯崛起的伟大责任，在7纳米高端芯片上面，技术大牛梁孟松博士，也做出了新的成绩。
当然，如今中芯国际还没有成功量产，那么，中芯国际未来能成功吗？要是中芯国际真能成功实现7纳米芯片的量产，对中国芯而言，会有怎样的影响呢？

关于国产7纳米，梁孟松传来好消息
自从美国修改规则之后， “贸工技”企业越来越少， “技工贸”企业越来越多，其中，就有我国大陆代工龙头企业中芯国际。随着梁孟松博士的加盟，更是使中芯国际实现了从28纳米到14纳米的巨大飞跃。
但是，这还不够，距离高端芯片还有很长的距离，因此，在4月8日，根据微创社发布的消息称，梁孟松宣布要进军7纳米芯片，这则消息虽然直到目前为止，中芯国际并没有下场进行官方证实。

但是，这么大的事情，总不会是空穴来风的，而且，中芯国际既没澄清，也没证实，就这样任由舆论发酵，应该也有可能是真的，真的在研究如何将7纳米芯片工艺制程量产落地。那么，中芯国际7纳米芯片的量产是否真的有实现的可能呢？
中芯国际的7纳米芯片量产能实现吗？
中芯国际还是有可能可以成功实现对7纳米芯片的量产，我记得早在2019年的时候，中芯国际就开始开发下一代技术主要节点，也就是我们现在常说的N+1工艺技术，这种技术据说不仅可以在不使用EUV光刻机的情况下，成功实现7纳米芯片的量产。而且更为重要的是，据说可能还可以具备7纳米制程工艺相关的某些功能。
【芯片|不需要EUV光刻机，关于国产7nm，梁孟松再次表态】
在芯片性能上， N+1工艺可以将芯片功耗降低57% ，性能提高20% ，逻辑面积减少63% ，总的来说，这种工艺还是很先进的，如今中芯国际已经发展到N+2了，技术工艺无疑更加先进，未必就不能如愿实现7纳米芯片的量产。
其次，去年5月18日，华为曝光了一项顶尖的芯片技术—“双芯叠加”技术，这项技术主要就是想要通过两枚芯片的叠加，同时再经过一系列的优化，按照华为的说法，可以用两枚14纳米的芯片实现7纳米芯片的性能。

华为的设想，今年3月9日凌晨，在苹果春季发布会上得到了证实，苹果M1系列芯片M1UItra就是拿两枚M1芯片叠加封装起来的。因此，中芯国际也未必不可能用双芯叠加技术，实现7纳米芯片的量产。
总之，无论中芯国际进军7纳米芯片的传闻是真是假，如果中芯国际真的在进军7纳米的话，其实也不是没有成功量产的可能。那么，要是真能实现7纳米芯片，对我国究竟又会有怎样的影响呢？

真能实现国产7纳米，对我国有何影响？
近年来，阿斯麦尔对我国的态度可以说是一变再变，最开始的时候，阿斯麦尔曾经非常傲慢地表述，就算给我国图纸，我国也造不出来。但是，当我国上海微电子突破DUV光刻机之后，阿斯麦尔变脸比翻书还快。
先是在去年的上海世博会上，阿斯麦尔全球副总裁沈波表示，除了EUV光刻机之外，其他的，包括DUV光刻机在内的产品都能实现对我国的自由出货。再然后，阿斯麦尔也不再这么信誓旦旦了，阿斯麦尔CEO温彼得最新表态，中国不太可能独立复制顶级光刻技术，但也不是说不行。