光刻机|投资5100多万，俄罗斯要造EUV光刻机，比ASML还要先进？电子技术|创投圈

【光刻机|投资5100多万，俄罗斯要造EUV光刻机，比ASML还要先进？】

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光刻机一直以来都是制造半导体的核心设备，我国半导体产业落后于人，很重要的原因就是无法实现高端光刻机的生产。据悉，一台光刻机由数十万个零件组成，需要全球五千多家供应商联手打造。而且光刻机所用零部件大都有专利保护，无法复制。

因此，能生产光刻机的厂商屈指可数，能生产EUV光刻机的企业，全球只有荷兰ASML一家。不过，随着芯片作用日益凸显。越来越多国家和地区开始提升对半导体技术、设备的重视程度。
据外媒报道，俄罗斯莫斯科电子技术学院，已经接下贸工部6.7亿卢布（约合人民币5100万）资金。开始研发用于芯片制造的光刻机，并且声称要达到EUV光刻机级别。那么，莫斯科电子技术学院能成功吗？

相信大多数人在刚听到这一消息时都和我一样，认为莫斯科电子技术学院是痴人说梦。不过，在仔细了解后我发现，莫斯科电子技术学院生产高端光刻机虽然希望渺茫，却并不是没有希望。光刻机机构复杂，零部件数量众多，但决定光刻机分辨率的因素主要就是三点，常数K、光源波长以及物镜的数值孔径。

EUV光刻机之所以分辨率高，原因就是EUV光刻机使用的是极紫外光EUV ，它的波长仅为13.5nm 。这里插入一个冷知识，通常来讲，波长越短，分辨率就越高。而莫斯科电子技术学院研发光刻机的突破口，就是波长。
莫斯科电子技术学院是基于同步加速器和等离子体源，研发无掩模X射线光刻机。光源是X射线，他的波长介于0.1nm到10nm之间，比EUV极紫外光的波长还要短。

因此光刻分辨率将更高，即便其他零部件有缺陷，但凭借光源优势，莫斯科电子技术学院也有希望研发出媲美EUV光刻机的产品。
不仅如此，由于X射线光刻机无需光掩膜版可以直接光刻。因此，若是光刻机研制成功，那么光刻机的生产成本和使用成本都会大幅度降低。

不过，即便有X射线技术加持。莫斯科电子技术大学研发的高端光刻机，也仅仅是有希望而已
事实上，查阅相关资料可以发现。 X射线技术不是现在才有，也不是俄罗斯专利，在此之前
美国、欧洲都有进行过研究。国内也有机构研发X射线光刻机，而这一设备之所以没有大规模量产。主要原因是X射线光刻机芯片生产效率和EUV光刻机完全无法相比，并且存在很大的局限性。

不过，俄罗斯在X射线技术以及等离子技术方面有天然优势，莫斯科电子技术学院能在高端光刻机自研道路上走多远，值得期待。
在你看来，俄罗斯能研制出不输EUV光刻机的光刻机设备吗？