光刻机|绕过EUV光刻机？ASML最恐惧的事情发生了，芯片产业或迎来巨变 asml|x光|芯片|it芯片|重器

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ASML光刻机
光刻机在芯片制造中的重要性不言而喻，而在遭到断供威胁之后，俄也再次做出决定——2022年3月31日多家科技媒体爆料，莫斯科电子科技研究院（The Moscow Institute of Electronic Technology）已经开始着手研究新型光刻机来应对ASML的断供威胁。

X射线光刻机
EUV光刻机是如今先进制程芯片制造中必不可少的设备之一，但是大家是否想过为什么EUV光刻机必不可少？这就牵扯到EUV LLC联盟，为了制定下一代光刻机标准，由美国能源部牵头联合了IBM、英特尔、AMD、摩托罗拉等科技企业以及劳伦斯利弗莫尔、桑迪亚和劳伦斯伯克利三大实验室，最终得以在极紫外光技术取得突破，而ASML则成为EUV光刻机的具体制造者。
所以虽然看起来EUV光刻机是ASML的产品，但是其背后则是众多西方科技企业的背影。那么为什么EUV光刻机得以成为最终标准？一方面是当时光刻机霸主尼康和佳能被排除在这个计划之外成为牺牲品，另一方面则是当时全球化处于蜜月期，没有人能够想到后来竟然会发生断供的可能。

X射线光刻机原理?
因此在研究新型光刻机时，俄方选择了不同于EUV（极紫外线）的X射线作为光源。极紫外光EUV的波长为13.5nm ，可以用于制造7nm及以下的先进工艺；X射线的波长介于0.01nm到10nm之间，理论分辨率比EUV光源要高不少，因此也可以用于先进制程光刻机。同时X射线光刻机的另一个优点是不需要光掩膜版而是直写光刻，无论是从成本还是性能方面考虑都是一个切实可行的方案。

X射线光刻机
作为曾经全球第一大国，俄在技术方面上也有不少的积累，特别是在X射线以及等离子方面都有不错的积累。如今跳出EUV框架选择X射线作为光刻机的突破路线确实是一个切实可行的选择。同时由于更短的波长使得X射线在1nm及更先进的制程中也存在反超EUV光刻机的可能。
但是从反方向来说，选择X射线光刻机路线也面临着非常大的难度，首先就是产业链问题。 EUV光刻机为何始终难以撼动？高达10万个零件背后所牵扯到的是包括光源系统、光学镜头系统、双工件台系统等等全球多家顶级科技企业的结晶。如今的EUV光刻机已经形成了一整套完备的产业链，不同企业负责不同分工来完成这台精密的仪器。
X射线光刻机确实可以完成理论方面的研究，但是由于缺乏产业链的支持，导致这种类型的光刻机难以实现量产，或者量产成本过高。随之而来的就是商业化应用难以推广，最终导致失败。

我们有最完备的制造业体系
写在最后【光刻机|绕过EUV光刻机？ASML最恐惧的事情发生了，芯片产业或迎来巨变】X射线光刻机对于我们而言同样也有不小的启示作用，以往我们往往一直盯住EUV光刻机不放，试图在同一科技路线实现超越；如今X射线光刻机给了我们另一个思路——或许抛弃EUV光源另起炉灶也是一个可行的选择。毕竟我们拥有全球最为完备的工业制造体系，对于突破芯片封锁也多了一个可能性。