芯片|台积电传来消息，揭露ASML公司“软肋”，外媒：没想到问题这么大台积电|asml|光刻机|it芯片

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随着芯片制程工艺的更新迭代， EUV光刻机成为了当前炙手可热的高尖端设备，作为目前唯一能够生产EUV光刻机的企业， ASML公司可谓是赚得盆满钵满。
EUV光刻机是全人类的智慧结晶，科技含量高得离谱，但它也不是一款十全十美的产品，各种“隐疾”不断被揭露。
近日，据外媒报道，台积电3nm制程工艺芯片的良品率非常低，仅达到了70％！

台积电以先进的芯片制程工艺，超高的良品率稳坐芯片代工市场的头把交椅，为何3nm工艺的良品率会这么低呢？根源还是在于“随机效应” 。
光刻机的工作原理通过对光线的利用，将设计好的集成电路线路图刻画在硅晶圆上，在这个工程中，会出现一个“随机效应” ，且会随着芯片制程工艺的提升， “随机效应”就越严重。 “随机效应”不断会影响芯片的良品率，还会导致芯片存在各种各样的缺陷，如性能低、发热等。

当然了， “随机效应”发生的概率并不是没有办法降低，科学家们通过摸索，终于找到了有效的解决办法，就是利用“光罩” 。
据悉，芯片制程工艺越高，需要的光罩就越多。但是， EUV光罩的生产良率并不高，成为芯片制造企业无法大规模提升高端芯片产能的一个重要因素。
为了降低对光罩的使用，提升产能，降低制造成本，台积电的3nm工艺推出了三个版本，分别为N3、N3e和N3b ，其中， N3e采用20层光罩， N3会采用24层， N3b采用光罩的数量会更多。

值得一提的是，台积电虽然通过降低光罩的使用数量，提升了产能，已经降低了制造成本，但这种方案也有一定的隐患，就是制造出来的芯片，性能很难达到预期，甚至会影响产品的正常使用。
EUV光刻机极高的“随机效应” ，以及EUV光罩的低产能，将会成为ASML公司进一步提升行业话语权的“短板” ，毕竟任何一家企业也无法接受存在缺陷的芯片。
台积电在3nm制程工艺上的动作，一起了各界人士的广泛关注，多家外媒纷纷发文表示：没想到EUV光刻机存在这么大的问题，在“随机效应”问题没有得到有效解决之前， 3nm芯片很难实现大规模商用！

其实， EUV光刻机的短板在4nm芯片上就彻底地暴露了出来。两个月前，高通的4nm芯片正式实现商用，各种问题也随之而来，引起了各界的不满，卢伟冰甚至说出了“这个破芯片，做事不能令人满意，高通需要加油了”这样的话。
前不久， ASML公司利用在行业内的影响力，在没有任何证据的情况下，认定我国高新技术企业东方晶源侵权，并要求客户终止与后者的合作，但不知随着EUV光刻机“短板”的暴露， ASML公司在今后的行事中，还会不会这么霸道！

【芯片|台积电传来消息，揭露ASML公司“软肋”，外媒：没想到问题这么大】目前，我国在芯片领域已经实现“换道超车” ，多款量子芯片已经问世，相信用不了多久，我们就能降低对ASML公司的依赖，掌握芯片领域的话语权。