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做为IDM 2.0战略的一部分 , Intel上周公布了野心勃勃的产品及技术工艺图 , 其中先进工艺的升级换代非常激进 , 不到4年内就要升级5代工艺 , 而且从2025年开始的新一代工艺开始会首发新一代的EUV光刻机 , 价格超过19亿一台 。
Intel之所以这么激进 , 是因为在抢先使用EUV工艺上吃过亏 , 他们原本计划在10nm节点就上EUV工艺的 , 但是EUV光刻机当时还不成熟 , 随后被台积电、三星抢先了 , 阴差阳错之下工艺落后了 。
Intel现在的计划是在Intel 4工艺(之前的7nm工艺)中使用EUV光刻机 , 计划今年下半年投产 , 首发产品是2023年的14代酷睿Meteor Lake处理器 。
现在的EUV光刻机还是NA 0.33技术的 , Intel的重点押注在了下一代EUV光刻机 , 也就是NA 0.55的ASML新一代光刻机 , 据说成本高达3亿美元 , 约合19亿元 。
实际上4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机 , 其中分为两种 , Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发 , 产能输出是185WPH , 每小时生产185片晶圆 , 2023年上半年交付 。
量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200 , 产能提升到200WPH , 每小时200片晶圆 , 预计会在2024年下线 , Intel的20A工艺正好是在2024年量产 。
不过Intel这次抢先下单不怕下代EUV光刻机延期吗?对于这个问题 , 主管Intel工艺技术的高管Ann Kelleher日前在采访中也谈到了这个可能性 , 但她表示就算延期了也不会让公司破产 , 而是有个B计划 。
至于Intel的B计划怎么解决新一代EUV光刻机跳票问题的 , 这就没有明确信息了 。
【英特尔|抢先下单19亿一台的下代EUV光刻机 Intel表态:再延期也有B计划】
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