等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢

等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢

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等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢

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【等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢】

Zplasma Inc. 是一家极紫外光 (EUV) 光源初创公司 , 在 EUV光刻领域的众多公司进行谈判 , 包括光源供应商和领先的光刻设备制造商ASML寻求500万美元的风险投资或战略企业投资投资 。  该公司孵化于美国华盛顿大学Z-Pinch实验室 , 需要资金来开发原型源模块 , 该模块将能够在 EUV 光刻扫描仪的中间焦点上提供 200 W的功率 。  这应该允许每小时生产 125 个晶圆 。



如今 , 我们都很清楚:2012年 , ASML的第一批NXE:3300 生产型 EUV 光刻机的EUV光源仅有50W 。  那么对于这家提供200W EUV模块的初创 , 以及区区 500 万美元的投资 , ASML是否投资了呢?




我们简单地梳理一下:过去半年 , 我们曾经谈过几种1000W级的EUV光源方案 , 例如Lycean的紧凑型加速器、日本KEK的自由电子激光 。 另外谈到100 W级的基于等离子体的方案 , 仅有LPP和DPP 。 而Zplasma的流动式Z-Pinch等离子体技术是资讯中报道的第三种基于等离子体发光的可达100W以上规模的EUV光源技术 。 那么 , 在美国另一家企业Cymer成功获得LPP光源功率突破之后 , 流动式Z-Pinch方案有持续性的进展吗(请注意 , 流动式Z-Pinch区别于我们此前多次提到的美国Energetiq的三束线Z-Pinch技术)?




最新的消息是:Z-Pinch技术孵化的第二家企业Zap-Pinch获得2750万美元 , 将流动式Z-Pinch技术用于搭建无磁场惯性约束核聚变装置!如果我们考虑到整个核聚变领域几乎都在研究等离子体 , 而商用化的EUV光源恰恰也是基于等离子体--了解这一简单的事实 , 便很容易理解为何Z-Pinch实验室同时出现100W级EUV光源初创和惯性约束核聚变初创了 。



这里展示的是美国科研体系“水下冰山”的一些故事:它不仅告诉我们“光刻机是人造的 , 不是神造的”这一事实 , 更显著的揭示了“光刻机到底是谁造的、以及怎么造的”--它绝对不是缺啥补啥的攻关模式 , 而是从大量的技术池里挑出来的最优组合解 。