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不过 ， 需要注意的是 ， 虽然光刻胶的问题解决了 ， 但是光刻机仍然是国内的难点 ， 因为28nm的光刻机不足以生产出7nm芯片 。 所以说 ， 国产芯片事业任重而道远 ， 还需继续努力才能站得更高 ， 看得更远！
写在最后不可否认 ， 南大光电突破光刻胶材料对于国内而言 ， 是一个非常好的消息 。 只要其他的半导体公司也像这样一步一步地前进 ， 国产芯片一定能慢慢实现崛起的伟大目标 。 相信这一天不会太远 ， 让我们拭目以待！
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【国产巨头再次“破冰”，生产7nm芯片的关键材料解决了？】对此 ， 你们怎么看呢？欢迎留言和分享！

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