国产光刻机的艰辛突围路：07年出样机，被国外卡脖子9年才量产光刻机是什么东西？如果是两年前问这个

光刻机是什么东西？
如果是两年前问这个问题，估计没几个人会知道。
但是因为这一年多来，美国持续对华为，中芯国际等中国高科技企业打压，很多人明白了光刻机是造芯片的关键核心设备。
华为是因为芯片被卡脖子，而国内的芯片厂又因为光刻机被卡脖子。
芯片厂龙头中芯国际在2018年向光刻机龙头ASML订了一台最先进的euv光刻机，在美国施压下，这台设备何时到货已经变得遥遥无期。
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国内不是不能做光刻机，只是与ASML差距实在太大。
国内最大的光刻机设备商是上海微电子，现在量产了的是90nm的光刻机，而ASML的EUV光刻机已经能够制造3nm制程的芯片。
这中间隔了90纳米、65纳米、45纳米、32纳米、22纳米、14纳米、10纳米， 7纳米， 5纳米等9个芯片工艺世代。
因此有人说，上海微电子与ASML的差距差了近20年，这个估计并不保守，因为差距确实就是有这么大。
是国产厂商不争气吗？
完全不是，看完之后，你不但不会觉得它不争气，反而会为它感到骄傲。
早在2007年的时候，上海微电子就已经造出了90nm的光刻机样机，但是足足用了9年才将其量产。
为什么用了这么久才量产呢？

02年才成立的上海微电子仅仅用了5年，就研发出90nm光刻机样机。

“给你们中国人光刻机图纸，你们中国人也造不出光刻机。 ”
这句话就是在当时的ASML在听到中国人也成立了光刻机设备厂时说出来的，自大与狂妄溢于言表。
2002年，上海微电子（简称SMEE)成立，由贺荣明担任总经理。

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那时ASML已经成立了将近20年，而日本的尼康和佳能更是早在上世纪六七十年代就成立了。
而那时的光刻机行业格局已经基本定型， ASML垄断了高端市场，而中低端市场则由ASML ，尼康和佳能三家平分。
我国虽然在七十年代也研发过光刻机，一度将与发达国家的技术差距缩小到个位数以内。
但是随着90年代以联想为代表的企业提出“贸工技”的理念以来，造不如买的观念大行其道，处于起步阶段国内光刻机研发体系被国外设备厂商冲得七零八落，出现了断代。
刚成立的上海微电子几乎是一穷二白，没有人才团队，没有技术积累，也没有配套的供应链。
这种情况下要重新起步的艰难可想而知。
更加关键的是，由于欧美日各国一向都将半导体行业看作战略产业，对相关技术的出口进行了严格限制。
但就在这种情况下，贺荣明面临的困难与压力可想而知。
但是在5年后的2007年，贺荣明带领上海微电子突破重重困难，生产出了我国首台90nm投影光刻机。
13年前， 90nm光刻机还属于高端机，那时的ASML还刚开始生产38nm的光刻机，我国与ASML的差距只有1个世代。
上海微电子也成为了继ASML ，尼康，佳能之后，世界第四家掌握了高端投影光刻机的厂商。

欧美日等发达国家的技术围堵使90nm光刻机样机成了摆设。

【国产光刻机的艰辛突围路：07年出样机，被国外卡脖子9年才量产】光刻机是相当复杂的设备，目前最先进的光刻机集成了10多万个零部件，可以装满40个集装箱。
而这其中有大量关键零部件都是国外制造的：比如美国的光源，德国的镜头等等。
虽然彼时的ASML已经开始生产38nm的光刻机，在得知我国研发出90nm的光刻机之后，这些欧美日厂家联合起来，对上海微电子进行了技术围堵。
这些关键的零部件都断供了。
没有零部件，上海微电子研发出来90nm光刻机没办法进行量产，贺荣明只能眼睁睁的看着千辛万苦研制出来的样机成为了摆设。