ASML一台EUV光刻机凭什么能卖12亿元？( 二 ) |EUV光刻机|高端光刻机|美国|

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光刻技术每提升一个阶段，采用的光源波长就下降一个档次，刻出的集成电路图形也更精细，同样硅片上容纳的晶体管就更多，功耗更低，性能也更强大。
由于集成电路图像分辨率和光刻机光源的波长呈负相关关系，波长越短，图像分辨率越高，因此采用不同光源的光刻机都有自己的分辨率极限。目前尼康和ASML的高端光刻机采用DUV光源，能实现的晶体管特征线宽不能低于10nm ， 10nm以下需要ASML的采用EUV光源的旗舰光刻机，即市场俗称的EUV光刻机（见下图）。

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前一段时间，市场曾有“7nm+”的说法，由于是采用DUV光刻机生产，因此并不是真正的7nm ，而是10nm制程工艺的改良版。
说到光刻机的技术含量，其实就是在说它的研发难度。而光刻机的售价，又往往和它的研发难度挂钩。前面说的ASML的EUV光刻机敢卖出0.68架波音B787飞机的高价，和EUV光刻技术研发难度有一定关系。
EUV光刻技术的研发最早始于1996年之前， 1999年EUV光刻技术被国际半导体技术发展路线图（ITRS）确定为下一代光刻首选技术，之后，美国、欧洲、日本和韩国纷纷介入，期望在未来先进半导体制造中占据制高点。
其中，美国参与EUV光刻技术研究的超过50个单位，包括国家实验室、大学、科技公司等，比较知名的有英特尔联合AMD、摩托罗拉、美光、Infineon和IBM成立EUV光刻技术研发联盟。欧洲下注最大，超过35个独立国家、大约110个研究单位，参与到EUV光刻技术研究中。
日本起了个大早， EUV光刻技术研究始于1998年，却赶了个晚集，到2002年6月才成立EUV光刻技术系统研究协会。
韩国在工商能源部(MOCIE)的支持下开展EUV光刻技术研究，主要参加单位有 KERI (韩国电子研究社)、汉阳大学、韩国国民大学、三星浦项（Samsung Postech）、首尔大学等。
简单说，在EUV光刻技术的研发中，选手们拼的是举国之力。
经过20余年的角逐，最终在竞赛中胜出的是美国，掌握了绝大部分知识专利，欧洲荷兰的ASML则通过参与系统集成，进入到EUV光刻产业链条。这也是ASML出口EUV光刻机，需要美国出口许可，而出口DUV光刻机则无需美国点头的原因，毕竟EUV的知识产权基本被美国垄断。 EUV光刻技术研发的详细内容，可以参考文末的《EUV光刻技术隐秘往事》。
3、市场垄断得水泼不进
EUV光刻技术类似于飞机发动机，既看基础研发实力，又要拼敢烧钱，还要屁股能坐得住，耐得住寂寞。正因为条件苛刻，所以仅美国、欧洲、日本和韩国等少数发达国家和地区愿意参与，很多国家和地区根本就不敢玩。
参与EUV光刻技术研发的玩家少，修成正果的仅有美国一家，最后推出EUV光刻机的厂家又仅为ASML ，超高端光刻机的市场已经变成事实上的垄断市场，这也造成了一台EUV光刻机敢卖12亿元人民币，有钱还不一定买到的原因。
事实上，整个高端光刻机的市场都是ASML的菜。芯思想研究院（ChipInsights）的统计表明，超高端的EUV光刻机，高端的ArFi和ArF光刻机，在2019年共出货154台，其中ASML出货130台，占了整个市场的84% 。感觉这个份额有点过分？其实ASML的市场份额已经下跌了，要知道在2018年它占据的市场份额可是90% 。

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对数据具体分析的话，会发现光刻机市场已经是垄断得水泼不进。 EUV光刻机市场， ASML独占100%份额；ArFi光刻机市场， ASML市占率高达88%；ArF光刻机市场， ASML占据63%市场份额；KrF光刻机市场， ASML还是占据63%的市场份额。在中端的i线光刻机市场， ASML把能吃的蛋糕也都吃下了。