南方科技君|国产7nm芯片打破国外垄断，不用EUV光刻机！芯动科技正式官宣本文原创

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我们都知道，美国禁令之下芯片问题已经成为了当下科技圈最热的话题，这其中的原因除去芯片本身在科技发展中具有不可替代性之外，还因为我国半导体产业在这一块确实存在非常严重的“卡脖子”情况。

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我们能造几纳米芯片？
就目前来看，当前国际一流的芯片大多采用7nm制程工艺制造，但是拥有7nm及以下工艺的目前全球却只有台积电和三星两家，而且美国技术的占比还非常高。比如根据台积电公布的官方数据，其14nm和7nm工艺美技术占比就在15%以上。
那么如果完全不用美国技术，我们能够造出多少纳米的芯片呢？根据倪光南院士的说法，国内能够独立自主制造28nm光刻机，同时也具备28nm乃至14nm工艺芯片制造能力。

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不过这里需要说一下的是，目前我国最先进的国产光刻机还是90nm级别，至于最新的28nm国产光刻机，根据上海微电子的透露，预计两年内便可线下。
所以，目前的情况是，如果仅凭现有的技术，那么我们可以制造28nm甚至14nm芯片，但是如果要制造更高端的7nm ， 5nm芯片，那还是得依靠荷兰的EUV高端光刻机。

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芯动科技正式官宣
但是现在情况不一样了，近日芯动科技正式官宣，国产7nm芯片打破外国垄断，就算不用EUV光刻机也能造出7nm芯片！
根据芯动科技在10月11日公布的消息，其已经完成全球首个基于中Xin国际FinFETN+1先进工艺的芯片流片和测试。值得注意的是，此次所有IP全自主国产，功能也是一次测试通过。
【南方科技君|国产7nm芯片打破国外垄断，不用EUV光刻机！芯动科技正式官宣】这个FinFETN+1工艺有什么特别的呢？根据业内大佬梁梦松在今年早些时候的透露，该工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片标准相比，性能提升20% ，功耗降低57% ，在功率和稳定性方面几乎与台积电7nm工艺等同。

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而这也就意味着，就算是不用EUV光刻机，只用普通的光刻机，再搭配上FinFETN+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片。
更重要的是，正如芯动科技所官宣的那样，此次所有IP全自主国产，完全不用担心卡脖子问题！
此外，目前该消息已经上了《珠海特区报》，并且获得高度赞誉：“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功，不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断，同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破。 ”
芯片是人造的，不是神造的
关于芯片制造，比亚迪的老总王传福曾经喊出了这样一句口号：“芯片是人造的，不是神造的” 。

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事实上也的确如此。当芯片制造被卡脖子时，网络上铺天盖地的都是科普芯片制造有多么难，甚至于台积电创始人张忠谋在早些时候也曾说“即便大陆举国之力发展芯片制造，也难以取得成功” 。
但是实际上，就拿光刻机来说，被誉为“人类工业皇冠上的明珠” ，荷兰ASML公司总裁就直言：“给中国人图纸也造不出高端光刻机” ，同时还有很多人说造光刻机比造原子弹还要难。
而事实上呢？造光刻机确实很难。