光刻机|“国芯”双喜临门，攻下5nm技术瓶颈，打造28nm光刻机！芯片|半导体|刻蚀机|it芯片

文章图片

文章图片

文章图片
【光刻机|“国芯”双喜临门，攻下5nm技术瓶颈，打造28nm光刻机！】一款芯片从设计到量产，其中要经过几十道工序，技术难度极其复杂，目前具备芯片生产和研发技术的国家屈指可数，主要技术还是被欧美国家掌握。芯片制造的核心还是光刻机技术，目前技术最先进的就是荷兰ASML光刻机，一台机器重量就达到了上百吨，可想而知这庞然大物的研发难度多大！芯片制造过程复杂，主要工序还是分为光刻、刻蚀与沉积，就连ASML高管都直言不讳表示，即便是把光刻机的图纸分享出去，也不可能被山寨出来！

光刻机的重要性
由此可见，芯片制造业的门槛很高，加上中国本身在这个领域起步较晚，核心技术一直都是依赖进口，时至今日也无法制造出14nm以下的光刻机！和其它产品不同， ASML光刻机还是“非卖品” ，背后的股东是英特尔、三星和台积电等，它们三家是目前世界上最顶级的芯片巨头，加上美禁令影响下，原本计划出口给中芯国际的Euv光刻机最终还是被叫停了，如今华为也是面临“无芯”之痛，归根到底还是因为国内没有先进光刻机！
国芯正式崛起
意识到芯片的重要性之后，中国科技巨头也是众志成城，并且开始全力打造光刻机技术。这段时间中科院正式表态，即可进入光刻机研发课题，国产芯片未来可期！虽然中国在芯片制造领域起步很晚，但经过多年的不断追赶正在缩小差距，并且已经具备量产14nm芯片的能力。好在中国手里还有一张王牌，尤其是在刻蚀机领域已经是全球领先地位，中微半导体公司的刻蚀设备已经应用于7nm与5nm集成电路加工制造生产线，台积电也是其客户！
成为台积电客户
报道消息称，中微半导体制造的刻蚀机实现技术突破，已经从65nm进入5nm ，并且在去年就成功交付了，台积电的5nm制造工艺就少不了中微半导体的功劳。技术原理方面，蚀刻机会根据光刻机印上去的图案把那些光刻标记出来的区域刻蚀掉，然后将硅及化合物进行蚀刻，它是芯片制造不可或缺的一环，全球范围内具备刻蚀机工艺的厂商屈指可数。凭借出色的技术，中微半导体已经成为了长江存储、台积电等巨头的合作伙伴，为国产芯片贡献巨大力量！
攻下5nm技术瓶颈
从成立时间来看，中微半导体其实才成立16年时间，短短几年之间就制造出了5nm刻蚀机，并且拿下国内近8成市场份额，当之无愧的行业领军者！作为中微半导体的创始人，尹志尧也是全球刻蚀机行业大佬级别的人物，手持上百项专利。在他的带领下，中微半导体也是实现营收19亿规模，公司一半以上人员处于研发和工程技术岗位。网上报道消息称，中微半导体一台刻蚀机已经卖到2000万元，攻下5nm技术瓶颈，这是人类智慧的结晶！
国芯双喜临门
好事成双，上海微电子计划在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机，为国产芯片产业贡献巨大。据了解，上海微电子 (简称 SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，拿到了低端光刻机80%的市场份额，量产国内最先进光刻机！随着国产科技公司不断投入研发资金、加大人才培养后，中国在全球市场的芯片话语权越来越重，在光刻机、刻蚀机领域不断实现技术突破，国产芯片未来可期！