台积电台积电包揽全球50%光刻机，未来的高端芯片制造与大陆无关？( 三 ) |光刻机|芯片|中芯国际|

但后来，这台光刻机被扒出不是EUV光刻机，而是DUV（深紫外光光刻机），通常用来生产14nm芯片，并不是台积电用来制造5nm芯片用的尖端产品。
更讽刺的是， 2020年7月，武汉弘芯半导体项目因资金供应存在问题项目可能停摆。
而这台吸引了国人目光的光刻机，也被抵押了。

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面对技术封锁，华为坐不住了。
有消息显示，华为正在着手研发自己的光刻机，力求突围。
社交媒体上关于华为光刻机专利的消息，包括一项“通过光的移动，而不是机械移动来实现光刻精度”的专利，是一大技术创新。
华为还在网上公开发布了光刻工艺工程师的职位，并在全国范围内频繁挖人。

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光刻机虽极其复杂且精妙，却并非遥不可及。
2018年8月份，清华大学的研究团研发出了双工作台光刻机，使得中国成为全球第2个具备开发双工作台光刻机的国家；
2019年4月，武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队采用远场光学的办法，成功刻出9nm宽的线段；
2020年7月，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研发出了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
美国半导体产业调查公司VLSI Research总裁里斯托·普哈卡（Risto Puhakka）认为，针对EUV光刻机零部件的研究非常之多，但他认为中国大陆仍未制造出可以开展生产的光刻机。
“自主研发光刻机将是漫长的过程。我不是说不可能，但这是一条漫长且艰难的道路。 ”他说。
小结
多亏了懂王的“制裁” ，大陆企业方才梦中惊醒，发现自己所处的位置已经快要看不见台积电的尾灯了。
但如今才开始追赶，可能会面临诸多的难题，甚至有可能花很大力气研发出来了高端芯片，市场却又被更高端、成本更低廉的芯片抢占，于是连变现的空间都被压缩殆尽。
“你已经积累了很多经验，这些经验给你带来创新和降低成本的机会，利用这个机会，就会在技术和成本削减方面，继续领先于你的竞争对手。 ”
台积电创始人张忠谋认为，不管是工艺，还是成本，都不是用很大的投资就很快可以获得的，所以大陆需要时间才能赶上。