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_原始标题：疯狂抹黑！两名中国籍高校研究人员在美被捕，美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

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两名中国籍高校研究人员在美被捕
【环球网报道采访人员侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员。据美国哥伦比亚广播公司（CBS）旗下媒体报道，美国司法部28日发布声明称，一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊（GuanLei ，音译）因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局(FBI)的调查而被逮捕并起诉。
此外，弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周（HaizhouHu ，音译）也于28日当天遭逮捕。
报道称，根据公开的关磊起诉书，美司法部宣称，他于7月25日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶。
在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝FBI检查其电脑的要求后， FBI找回了损坏的硬盘，发现该设备已无法修好。
起诉书还声称，关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学(NUDT)并不实地否认他和中国军方有关。
CBS Los Angeles：加州大学洛杉矶分校因涉嫌破坏证据被起诉
美司法部声明称，关磊8月28日首度出庭，预计下个月17日传讯。
另据CBS19频道报道，根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息，现年34岁的胡海周于28日被捕，被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息，以及窃取商业机密。
美媒称，他25日曾试图从芝加哥某机场前往中国，但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码。
CBS19：弗吉尼亚大学研究员因联邦指控被捕
近来，美国国内不断有炒作所谓“中国渗透”的声音。
上个星期，美国司法部指控现年53岁的得克萨斯州农工大学教授成正东(ZhengdongCheng ，音译)涉嫌串谋、虚假陈述和电信欺诈。

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两名中国籍高校研究人员在美被捕
中国外交部发言人汪文斌此前表示，美方执法部门为了抹黑打压中国，近来不断炒作所谓“中国渗透”、“中国间谍问题” ，已经到了草木皆兵、杯弓蛇影的地步。
众所周知，美国在全球范围内猖獗地大搞间谍窃密活动，连自己盟友都不放过。这些都有实据可查。
上月，美国国立卫生研究院(NIH)发布了一份关于“外国影响美国科研”调查的阶段性成果报告。
报告显示， NIH调查的189名科学家中只有7名(4%)存在潜在的知识产权问题，且尚未经法庭检验达到判罪标准。
NIH院长并呼吁美方加强与中国的合作和对话，而不是制造“有毒”的科研环境。
对此，汪文斌强调，一段时间以来，美方一些人泛化国家安全概念，罗织所谓“窃取知识产权”等莫须有罪名，诬蔑抹黑中国在美科技人员、留学生。
中方已多次就此表明严正立场。现在既然有关调查结果已经发布，我们不知道美方对这个调查结果该作何评论?
#两名中国籍高校研究人员在美被捕#两名中国籍高校研究人员在美被捕涉嫌妨碍FBI调查。汪文斌称，全球化时代，人才跨国流动，推动了全球范围内技术和经济的进步。
#两名中国籍高校研究人员在美被捕#两名中国籍高校研究人员在美被捕涉嫌妨碍FBI调查。希望美方听取美科技界人士理性客观意见，尊重事实，顺应国际科技合作的普遍规律和时代潮流，多做有利于中美科技交流与合作的事，而不是相反。

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