风暴俱乐部|台积电5nm产能已爆满！苹果拔得头筹台积电3nm以下制程2022年上线( 二 ) S

因为，美国总统川普2020年5月13日签署一项行政命令，延长他2019年5月颁布的一项国家紧急状态，即延长封杀华为一年，继续禁止美国企业使用对美国国家安全构成威胁的公司如华为、中兴等制造的电信设备。美国商务部2020年5月15日颁布新的出口管制令，对被美国视为危害美国国家安全的中国电信巨头华为进一步施加限制。毫无疑问，美国出台一系列新措施旨在阻断华为在海外使用美国尖端科技发展先进半导体技术的能力。接着， 2020年5月16日，驰名全球的世界最大的半导体代工企业台湾积体电路股份有限公司（简称“台积电” ， TSMC）即停止接受华为技术的新订单，原因是美国政府2020年5月15日强化了事实上的针对华为的禁运措施。
2020年5月15日，台湾积体电路股份有限公司（简称“台积电”）宣布，选定在美国亚利桑那州建5nm（这是表面上的说词，其实到2024年量产时肯定是采用3nm以下尖端制程工艺）晶圆厂， 2021年开工建设， 2024年启动量产，总投资额预计为120亿美元。半导体制造技术被视为中美高科技主导权之争的关键，今后或将对IT（信息化技术）尖端产品等的供应链产生影响。
关于半导体报道图片 ? 网络照片
ASML公司2019年出货26台EUV光刻机， 2021年交付多达50台，出货量翻倍。
荷兰ASML（阿斯麦尔）公司2020年1月23日发布2019年Q4季度及全年财报， Q4营收40.36亿欧元，同比增长35％，净利润11.34亿欧元，同比增长81％，全年共计出货26台EUV光刻机。
2019年全年， ASML公司营收118.2亿欧元，同比增长了8％，毛利率从46％下滑到了44.7％，全年净利润25.92亿欧元，维持不变。
2019年Q4季度， ASML出货了8台EUV光刻机，收到了9台EUV光刻机订单，全年EUV光刻机订单量达到了62亿欧元，总计出货了26台EUV光刻机，比2018年的18台有了明显增长，使得EUV光刻机的营收占比也从23％提升到了31％。
由于三星、台积电在2019年大规模量产EUV工艺，所以2019年是ASML的EUV光刻机大幅增长的一年，未来也会保持这个趋势，预计2020年交付35台EUV光刻机， 2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。
这也侧面证明了未来一两年才是EUV工艺大规模量产的时间点。
全球最尖端的ASML EUV光刻机 ? 网络照片
随后， ASML公司宣布正在研发新一代EUV光刻机EXE/5000系列，物镜系统的NA（数值孔径）指标由第一代 NXE/3400B、NXE/3400C EUV光刻机的0.33提高到0.55（在光刻机的分辨率公式中， NA数越大，代表光刻机精度更高）。与之前的一代EUV光刻机相比，新一代EUV光刻机意味着分辨率提升了70％左右（逼近1nm极限），可以进一步提升EUV光刻机的精度，毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm晶圆制程工艺的。
据ASML披露，正在研发的新一代EXE/5000系列EUV光刻机样机最快会于2021年面世，最快可能会于2022开始出货，大规模出货要到2024年。
而ASML公司所宣布的新一代EXE/5000系列EUV光刻机上市的时间节点与台积电2020年5月15日高调宣布的选定在美国亚利桑那州建5nm晶圆厂， 2021年开工建设， 2024年启动量产之时间点非常吻合。
虽然新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年，但台积电、三星等公司都已在大力研发3nm及以下段位晶圆制程工艺了。
据悉， EXE/5000系列EUV光刻机主要面向3nm及以下制程工艺时代，目前台积电和三星的晶圆制程工艺已经到了3nm ，但尚在研发阶段，要想让尖端工艺技术尽快落地， EXE/5000系列EUV光刻机这款尖端战略装备的到来显得极为重要。