[纳米]中科院首创2纳米芯片关键技术，还依赖光刻机吗？中国芯片迎转机芯片|光刻机

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【[纳米]中科院首创2纳米芯片关键技术，还依赖光刻机吗？中国芯片迎转机】今天跟大家聊一聊：中国在芯片领域可以说一路波折，由于缺乏关键设备光刻机，我们在该领域也很难有所突破，那中芯国际是如何逆转实现量产14纳米芯片的呢？并掌握2纳米的关键技术的，本期我们就来一起了解一下。
我们在科技领域一直在打压了几十年，这也让我们相关领域的技术始终无法突破，而作为制造芯片的关键设备EUV光刻机，我们目前掌握的精度最高的仅仅是45纳米级别的，就连28纳米的技术我们也在研发当中，可想而知我们在这个行业走的是多么的艰难。
而作为这项技术的主导者，荷兰在20年前就已经掌握了相关技术，目前他们的第五代EUV深紫外7纳米光刻机已经投入市场使用了，全球也只有他们掌握了此项技术，而中国目前也成为了全世界芯片消耗最多的国家。
我们在该领域的投资也超过了1.5万亿，所以我们渴望拥有这样一台高精密的光刻机，那这样一台光刻机究竟难在哪里呢，为何我们至今没有任何进展呢？
第五代EUV深紫外7纳米光刻机，是由上万行计算机代码以及数万个高精密部件组成，误差能够达到一根细丝的千分之一，因此它也得名半导体行业皇冠上的明珠，要想自主研发出7纳米的芯片，就必须要拥有这样一台7纳米光刻机，不同级别的光刻机直接决定了芯片的等级。
目前我们从荷兰进口最新光刻机的计划也在实施之中，但是在这个过程中并没有那么的顺利，在2018年荷兰光刻机工厂发生大火之后，我们花8.2亿天价购买的光刻机是否按时交到我们手上，也成为了一个谜团，而最新得到的消息是荷兰出口EUV光刻机到中国的许可已经到期了，现在也没有续约的消息传出，这也导致这个订单进一步被拖延。
如果没有这个关键设备，那么中芯国际在制造7纳米芯片的过程中，将会遇到很大的阻碍，那我们是否还有机会赶超呢？而根据中芯国际透露，目前国内首条14纳米的生产线已经在上海正式投入使用，已经实现了量产，而下一代的12纳米的芯片工艺也将实现，一旦实现耗能会比14纳米下降20% ，性能整整提升10% ，而目前荷兰光刻机也一直正常向我们供应，毫无疑问这时明智的选择，这将起到双方共赢的局面。
随后中科院也传来了好消息，在全球都处于7纳米阶段的研发的时候，中国科学家研发了一种全新的垂直纳米环栅晶体管，它也被视为下一代2纳米级别芯片的关键技术候选，这一项研究成果也被刊登在了国际微电子器件领域的顶级期刊上，并且成功获得了专利授权，目前我们在芯片的研发上已经处于世界顶尖水平，华为和中兴都已经实现了自主设计的5纳米芯片工艺，但是最终卡在了生产制造上面。
有了这方面的成就之后，这将大大提升我们在芯片领域的不足，这是独一无二的技术，而值得一提的是台积电也突破了3纳米环栅晶体管，这也意味着中国在芯片领域的制造，即将迈入一个全新的时代， 2纳米芯片的制造生产预计将于2024年投入使用，这或许又是中国在高科技领域的又一个里程碑，在半导体领域我们也将慢慢实现赶超，不再处处受人操控，对此大家有什么看法呢？欢迎在留言探讨。