在上海微电子技术取得突破之前 ， 我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片 。 这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化 。 而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻 ， 在突破关键领域以后 ， 更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快 。 国产光刻机突破封锁 ， 成功研制22nm光刻机 ， 中国芯正在逐渐崛起 。
与此同时 ， 西方发达国家的硅基芯片的制造已经接近了物理极限 ， “摩尔定律”正在逐渐的失效 ， 我国的芯片技术又在不断的突围 。 此消彼长之下 ， 我国芯片制造能力追平世界领先水平也只是时间问题而已 ， 更何况我国也在同步研究更加具有竞争力的“碳基芯片” ， 如果一旦研制成功 ， 我们甚至都不需要再依赖光刻机 ， 那么西方国家的封锁手段也会随之土崩瓦解 。
【光刻机|国产光刻机突破22纳米，差距还很大，为啥科研人员如此兴奋？】所以 ， 我们不能只是干着急 ， 对于我国的芯片领域发展 ， 还是要充满信心的 。

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