光刻机▲荷兰放行对中芯国际光刻机出口,到货的光刻机让人无奈,台积电笑了
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近期有消息称 , 中芯国际进口荷兰光刻机已经交付 , 并且成功进入深圳厂区 , 不过很无奈 , 到货的是低端DUV光刻机 , 而不是之前买的EUV光刻机 。 截至目前 , 荷兰ASML公司是光刻机技术最好的企业 , 其生产的TWINSCAN系列光刻机在精度和生产效率上都处于世界顶级 。 凭借优秀的技术水平 , ASML公司成为英特尔、三营以及海力士等众多国际半导体生产商的供应者 , 几乎所有的大型芯片制造企业 , 都要向荷兰ASML公司采购光刻机 。
【光刻机▲荷兰放行对中芯国际光刻机出口,到货的光刻机让人无奈,台积电笑了】
ASML公司早早和国内企业进行了各种合作 , 在中国各大城市开设分公司 , 荷兰ASWL公司领导层在一月份就曾经对外表示 , 完全不用担心其它企业会窃取顶级光刻机的技术 , 因为他们没有实力 。 光刻机有八万多个零件 , 来自世界各国顶级公司的技术 , 难以仿制 , 光刻机装有一系列传感系统 , 一旦出现异常 , 荷兰总部就会响起警报 。
不过中芯国际也在努力 , 即使没有荷兰的EUV光刻机 , 芯片工艺也在大幅进步 , 去年年底实现了14nm制程工艺芯片的量产 , 推动国产芯片前进一大步 。 14nm实现后 , 中芯国际马不停蹄地进行7nm制程工艺芯片的研发 。 近日 , 其首次对外公开N+1代和N+2代工艺的情况 , 中芯国际CEO梁孟松表示和14nm制程工艺相比 , N+1代工艺性能提升20% , 功耗降低57% , 芯片面积减小55% , N+2代工艺比N+1代工艺在性能上获得的提升更高 , 当然其成本也更好 。
中芯国际N+1代工艺和台积电第一代7nm制程工艺芯片比较接近 , N+2代工艺和台积电的7nm+工艺比较接近 , 去年中芯国际已经完成了N+1代流片 , 目前客户正在进行产品验证 , 预计将在今年第四季度开始量产 。 需要注意的是 , 中芯国际实现7nm制程工艺芯片的生产并没有依靠EUV光刻机 , 或许是因为没有EUV这一先进的光刻机设备 , 所以中芯国际7nm产品才无法和台积电、三星的产品相匹敌 , 但台积电的第一代7nm制程工艺芯片也没有使用EUV制程工艺 , 所以第一代产品和有无EUV光刻机设备的关系比较小 。
不过 , 7nm之后的5nm、3nm以及制程工艺更先进的产品则必须使用EUV光刻机 , 而排除压力 , 中荷合作是双方都期待的事 。
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