关哥打野|打破台积电和三星的垄断，中芯国际首条14纳米芯片生产线正式投产国内首条14纳米制程工艺的生产线实现量

国内首条14纳米制程工艺的生产线实现量产，说明国内的芯片制造技术又向前迈了一步，迟早会追上国际先进水平，只不过要清醒的认识到这条生产线所用的光刻机还不是国产，而是进口ASML公司的DUV光刻机。据报道称这条14纳米制程工艺的生产线在2019年第三季度实现了量产，之后中芯国际南方厂将还建成两条月产能均为3.5万片的先进集成电路生产线，这么来看，用到14纳米制程工艺的芯片都可以立足于国内进行生产，至于这条生产线的生产状况现在如何，并没有太多的消息报道出来。

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众所周知，芯片的能耗和性能与制程工艺息息相关，越低的制程工艺，就意味着同样面积的芯片上可以放置更多的晶体管，性能也更强，此外晶体管的体积越小，发热也就越少。这就是说越小的制程工艺，可以带来性能和功耗的双提升。在这条14纳米生产线建造之前，国内最好的制造工艺还是中芯国际于2013年开发的28纳米制程。可以说在6年时间里国内的芯片制程工艺没有大的突破，但是突破了14纳米制程工艺之后，就可以向10纳米， 7纳米制程工艺进发了。中芯国际的14纳米制程工艺芯片的良率已经达到了95% ，已经没有了量产的阻碍。下一步就是直逼7纳米制程的N+1和N+2制程工艺了，也就是说会直接跨过10纳米制程工艺。

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【关哥打野|打破台积电和三星的垄断，中芯国际首条14纳米芯片生产线正式投产】要知道有了光刻机并不一定可以制造出先进制程的芯片，台积电可以用DUV光刻机研发出7纳米制程工艺，但是三星和其他厂商就不行，这就是技术和工艺问题，虽说中芯国际用的光刻机不是国产的，但是贵在掌握了芯片制造的先进工艺。从这个意义上来说要比有先进的光刻机更加重要，毕竟国内制造出EUV光刻机只是时间问题，当研发出来后直接替换掉ASML的产品就行，国内28纳米制程工艺的光刻机快要交付了，届时完全可以替换掉ASML的光刻机，用于中芯国际研发的14纳米， N+1 ， N+2制程生产线，以打破米国的封锁。

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主要就是这条14纳米制程工艺的生产线，使用的并非国产设备，在根本上容易受制于人，也就是这次米国发动的制裁，导致中芯国际也无法为某些客户制造芯片，所以说除了掌握先进的制造工艺之外，还要掌握先进的光刻机，必须要立足于国内生产，完全使用国产配件，这样不仅仅会带动就业，也不会再受制于人了，国内首条14纳米制程工艺的生产线实现量产有着重大的意义。