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今天跟大家聊一聊：面对ASML的最新表态 ， 国内院士回应：别当真 ， 听一听就好了 。
相关限制虽然暂时阻碍了国内芯片企业的发展 ， 但是却给中国半导体带来了不一样的收获 ， 国内芯片企业开始注重自主创新 ， 各大科技企业也纷纷开启了对于芯片相关技术的研发 ， 仅仅在2020年新加入的半导体企业就多达两万多家 ， 中国半导体行业迎来了飞速发展 。
在芯片领域我们面临的最大困境就是光刻机了 ， 没能获取到尖端的EUV光刻机 ， 也让国内最为先进的制造工艺 ， 始终停留在了14nm上 。 而目前唯一能够生产EUV光刻机的企业是荷兰的ASML ， 直接垄断了全球市场 ， 这也是唯一有能力生产7nm以下芯片的设备 。
ASML不断发声示好国内市场受到相关限制的影响 ， ASML的光刻机想要正常出货需要得到美国的授权 ， 这也是大量使用到美国技术导致的困境 ， ASML光刻机出口中国的计划基本上被中断了 ， 就连DUV光刻机的出口都被限制 ， 更不用说最为先进的EUV光刻机了 ， 至今国内也没有一台 。
随着中国市场芯片制造工艺的不断崛起 ， 外加上国产光刻机不断实现技术突破 ， ASML负责人也意识到了一定的危机 ， 从去年下半年开始就不断发声示好国内厂商 ， 直接表态：“在一般情况下 ， 向中国市场出售DUV光刻机是不受限制的 ， ASML愿意提供先进的技术给中国厂商 ， 加速对于中国市场的布局 。 ”
在全球面临全面的缺芯状态下 ， 中芯国际成功恢复了成熟工艺的授权 ， 随即ASML就和中芯国际签订了12亿美元的合同 ， 11台光刻机目前已经陆续到达中芯国际 。
ASML的最新表态在今年4月份的时候 ， ASML针对目前的情况两度发声 ， 表态：“限制ASML等等企业自由出货 ， 最终面临最大损失的将会是美国 。 ”见到没有任何的效果之后 ， 随后再次发声：“如果ASML等等企业不能正常出货 ， 在经过15年的发展之后 ， ASML等等企业将消失在中国市场 。 ”
似乎某些人并没有把这样的劝诫听进去 ， 而就在近期ASML有了最新的表态 ， 其表示：”如果禁止ASML出售光刻机给中国 ， 那么只需要三年的时间 ， 中国就能研发出最为先进的光刻机 。 “
然而对于这样的示好态度 ， 国内院士直接回应道：“别当真 ， 听一听就好了” ， 因为我们自己都清楚 ， 一看目前国内的整体工业水平 ， 想要在三年内研发出先进的光刻机 ， 存在的可能性并不大 。
ASML想要表达什么意思其实ASML做出这样的表态 ， 并非仅仅是字面上的意思 ， 虽然说三年内研发出先进的光刻机确实夸张了点 ， 但言外之意是想表达国产技术研发的进度很快 ， 其实院士这样的回应 ， 我们也能够理解 。
根据相关数据显示 ， 目前ASML生产的DUV光刻机 ， 其光源技术可以实现193nm的波长 ， 可以实现7nm以上芯片的制造 ， 而EUV光刻机可以实现13.5nm的波长 ， 最多可以实现3nm芯片的制造 。
虽然光源技术在光刻机当中是最重要的技术之一 ， 但也并非采用的唯一先进技术 ， 一台EUV光刻机集结了全球最为顶尖的技术 ， 我们就连DUV刻机都需要依赖进口 ， 更不用讲3年内能够突破EUV光刻机的制造技术了 ， 其中美国的技术就是我们绕不开的一个门槛 。
国内光刻机水平目前由上海微电子生产的90nm光刻机已经实现量产 ， 并且已经正式推向市场使用 ， 而在很早之前上海微电子就宣称 ， 已经攻克了全新一代的28纳米光刻机 ， 其可以实现的波长和ASML的DUV光刻机一致 ， 同样达到了193nm ， 同样也能够实现对于7纳米以上的芯片制造 。
但至今都没有传出组装下线的消息 ， 但就算是我们实现了DUV光刻机的国产化 ， 三年内把光源技术从193nm提升到13.5nm ， 基本上是不可能实现的 ， 先抛开要大量使用美国的技术不说 ， 就算是此前的ASML也没有办法在这么短的时间内完成研发 。
【asml|面对ASML的最新表态，国内院士回应：别当真，听一听就好。】