什么叫做光阻 _光阻剂是什么

光阻，亦称为光阻剂，是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。光阻有两种，正向光阻和负向光阻，正向光阻是光阻的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。
负向光阻是光阻的一种，其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。光阻通常使用在紫外光波段或更小的波长。
什么叫做光阻？光阻主要可分为正光阻及负光阻二种,正光阻就是被光照射的部份可以被显影液去除掉,而未曝光的光阻则不会被显影液去除(左边) 。而负光阻则相反,被光照射的部份不会被显影液去除,而其余不被光所照射的区域将会被显影液所去除(右边) 。
光阻剂是什么光阻剂是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。
光阻有两种，正向光阻(positive
photoresist)和负向光阻(negative
photoresist) 。
正向光阻是光阻的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。
【什么叫做光阻】负向光阻是光阻的一种，其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。
光刻胶是什么材料近些年来很多人都在考虑一些新鲜物品方面的事情，其实新的物品出现，有时也就未必属于很好的事情，往往有些情况唯有是一次性办理好，才可以让以后的问题发生概率得到降低，而在近期，光是高科技的物品，就足够让一些人调查一段时间了，那么光刻胶是什么材料？
1、光刻胶是一种有机化合物，被紫外光曝光后在显影溶液中的溶解度会发生变化。
2、硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
3、储存时间短保质期短暂，有效期仅90天，粘附性，抗蚀性，耐热稳定性、抗刻蚀能力，具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。
以上就是对于光刻胶是什么材料的全部内容。
光阻、光阻剂、光刻胶是同一个意思吗？光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。
什么是光刻胶光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。[1]光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
目的
硅片制造中，光刻胶的目的主要有两个：光刻胶原理，小孔成像！技术源头，古老的相机！
（1）将掩模版图形转移到硅片表面顶层的光刻胶中；
（2）在后续工艺中，保护下面的材料（例如刻蚀或离子注入阻挡层）。
分类
光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。
光聚合型
采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。
光分解型
采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。
光交联型
采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。
含硅光刻胶
为了避免光刻胶线条的倒塌，线宽越小的光刻工艺，就要求光刻胶的厚度越薄。
在20nm技术节点，光刻胶的厚度已经减少到了100nm左右。但是薄光刻胶不能有效的阻挡等离子体对衬底的刻蚀[2] 。为此，研发了含Si的光刻胶，这种含Si光刻胶被旋涂在一层较厚的聚合物材料（常被称作Underlayer），其对光是不敏感的。曝光显影后，利用氧等离子体刻蚀，把光刻胶上的图形转移到Underlayer上，在氧等离子体刻蚀条件下，含Si的光刻胶刻蚀速率远小于Underlayer，具有较高的刻蚀选择性。