【开征房地产税开发芯片如何？|】

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实际上，光刻并不是一种新工艺，早在1965年，中国就在用光刻技术制造芯片。如今光刻机的原理跟投影仪类似，以激光为刀，将设计好的电路图投射到硅片之上，在指甲盖大小的芯片上实现数百亿个晶体管的集成。上世纪70年代，国内清华大学精密仪器系、中国科学院光电技术研究所、中电科45所已经开始投入研制光刻机。在中国高考恢复的1977年，江苏吴县还专门举行了一场光刻机技术座谈会，这则几百字的会议消息刊登在一张微微泛白的报纸上。虽然内容简短，参会代表们达成了共识：光刻设备和工艺极为重要，要提高光刻机技术，以在半导体设备上赶超世界先进水平。
同年，行业传来捷报，中国第一台GK—3型接触式光刻机诞生。这种光刻机相对粗糙，就是光罩直接压在硅片上，再用灯光照射，但光罩易变形，难以重复使用，还会造成污染。上世纪70年代初，美国、日本等国家已经研制出了更先进的1:1投影光刻机和分步投影光刻机，但这些技术要求苛刻，当时国内光刻工艺难以达到。为了追赶世界先进水平，原机电部45所投入研制，终于在1985年研制出第一台分步投影式光刻机。当时的电子部技术鉴定认为，这达到了1984年美国GCA公司推出的分步光刻机19800DSW的水平。表面上看，中国技术也就落后美国1年。但有行业人士指出，这些设备偏科研项目，没有经过产线验证，并不代表真实水平。21世纪的今天，芯片落后于世界大潮乃是不争的事实。我老在想，当年大炼钢铁一下子就钢产量搞上去了，补齐了钢铁短板。今天为什么不学当年，来个芯片大跃进，把芯片产业搞上去呢？商品房地产市值500万亿，按百分之三收取年度税，税额为15万亿，两万多亿美金，这还不是大国什么是大国？开征房地产税开发芯片如何？我就不信芯片上不去！

来源：(未知)

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标题：开征房地产税开发芯片如何？

傻大方

开征房地产税开发芯片如何？

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