万州微视界|国产光刻机突破在即，打破美国荷兰垄断、助力华为芯片靠它了

_本文原题：国产光刻机突破在即，打破美国荷兰垄断、助力华为芯片靠它了

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受周末美国新制裁利空消息影响，科技股全线下跌。然而今日光刻类概念股票却逆势领涨A市，涨幅达到4.29% ，成为科技股中一道亮丽风景。在此，有必要讲解一下光刻机背后的国家较量。当美国技术封锁华为后，美国高通、微软及谷歌等高科技企业已经禁止提供国内芯片。虽然华为，展讯，紫光，中芯微等具备芯片设计能力。但当美国限制台积电和三星停止代工生产芯片时，国内的中芯国际14nm芯片工艺还可以缓冲一下今年的国内芯片用量；如果美国限制荷兰阿斯麦尔（ASML）的光刻机进口中国，国内的代工厂将无选择方案。光刻机，是国内芯片产业中最大的痛！
【万州微视界|国产光刻机突破在即，打破美国荷兰垄断、助力华为芯片靠它了】

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ASML光刻机
ASML是当前世界上最先进的光刻机制造公司，市场占有率超过80% ，而其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能制造，具备7nm芯片乃至5nm等芯片工艺。 ASML的大股东包括美国因特尔、台湾积体电路制造（台积电）、韩国的三星、荷兰皇家飞利浦电子公司等，其中因特尔占股为15% ，台积电大约5% 。一台光刻机的单价1.5亿美元，而荷兰ASML每年能够生产的光刻机数量为24台左右。

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切割好的晶圆
早在2007年以前，在光刻机领域还是日本尼康、佳能的天下， ASML则是不入流派。随后， ASML抓住了台积电的“浸润式微影”技术，双方合作确定了ASML光刻机领域的霸主地位。尼康、佳能一败涂地， ASML则成为半导体制造光刻机设备的绝对龙头。光刻机制造复杂。数据显示EUV高端光刻机设备内部的8万个零部件中，掺杂高端技术的零件不胜枚举，需要全球采购。而这些对技术工艺要求极高的零部件，有不少都是某个企业所专有，根本不可能被复制和模仿。光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在最先进技术是极紫外光。测量台移动的控制器，也是纳米级精度，要求超高。因此， ASML放言：即使公开制备图纸，也无法制备出来。
芯片

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一旦美国禁止光刻机设备，芯片也只能依附在图纸上。芯片的制备包括：提纯二氧化硅，制备圆柱体硅，晶圆加工，刻蚀芯片电路（铺胶、量测、光刻），最后切割测试封装。在光刻这一步上，最痛的例子就是中芯国际，早在2018年中芯国际就向ASML订购了一台先进光刻机（1.2亿美元）。由于美国阻止，这台机器一直没有运达国内，导致我国国产7nm芯片工艺处于落后地步，停留在14nm水平。
中科院专家曾表示：中国光刻机落后荷兰ASML大概15年。中科院光电所研发的365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米，是近紫外的光线。这离极紫外还有一点差距。光刻机的激光波长决定了芯片工艺高端，波长越短，造价越高。像ASML最先进的EUV极紫外光刻机，波长只有13.5纳米，可以生产10nm、7nm的芯片。根据分辨率和套刻精度，芯片可分为0.18um、0.25um、0.35um、10nm、7nm、65nm、28nm、20nm、16/14nm、90nm、40nm等。分页标题

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上海微电子装备公司
光刻机如此之难，但并不代表我国人缺乏啃骨头、克技术难点的公司和能人。中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm ，相当于2004年最新款的 intel 奔腾四处理器的水平，而现在ASML已经冲向了5nm、3nm工艺，差距之大可见一斑。国内已经实现了从无到有的过程，现在到了追赶工艺的阶段，光刻机有望即将迎来新的突破，志在打破荷兰美国垄断，助助力国内芯片的发展壮大。
最后，国产半导体设备和材料龙头标：安集科技、北方华创，刻蚀龙头：三安光电、华特气体、江丰电子、沪硅产业、精测电子、万业企业和赛腾股份等。