半导体设备持续高景气,关注以下龙头标的( 四 )

清洗贯穿整个半导体制造、是重要环节之一,至纯科技切入湿法清洗设备有望迎来广阔空间。半导体的清洗几乎贯穿整个半导体的流程。从硅片制造时需要对抛光好的硅晶圆进行清洗,去除表面的污染物,到芯片制备中去除光刻胶、湿法刻蚀、CVD等,再到最后的材料质检。每一个环节都需要清洗以保证下一步不受杂质的干扰,保持产品的良率。同时随着芯片制程的不断缩小,所需要的进行的清洗次数也就越来越多。据统计,清洗工艺的次数占到了在整个芯片制造工艺步骤的三分之一,是芯片制造的重要环节。

至纯科技作为国内高纯工艺系统龙头,多年来深耕主业与半导体、面板等领域主流客户构建良好关系,有望进一步受益未来三年全球FAB厂东移趋势,同时公司积极拓展、向前道延伸至湿法清洗设备,客户导入验证顺利进展之下有望迎来订单释放。预计公司2018-2020年归母净利润保持100%/51.1%/41.5%增速,对应实现归母净利润0.94/1.42/2.01亿元。

当前股价走势,在日线走势上,很明显出现一波较强的拉升,量能不断推升股价,建义回调10天线介入,

半导体设备持续高景气,关注以下龙头标的