光刻胶|打破美日垄断，我国高端光刻胶迎首条生产线！可用于7nm芯片制造 |7nm芯片|半

自从美国接二连三在半导体领域发起出口限制，我国半导体国产化进程也备受关注。而事实上，当前我国在半导体的设计、封测以及制造三大关键程序已有了初步的发展。近日，芯片生产的关键材料——光刻胶领域迎来了一则好消息，预计将对我国7nm芯片生产带来重大突破。

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我国高端光刻胶依赖进口，美日企业垄断95%份额
据新浪财经11月13日最新报道，我国宁波南大光电材料有限公司（以下简称“南大光电”）公开宣布，该司首条ArF光刻胶生产线已正式投产，估计项目完全达产后年销售额将达10亿元。目前南大光电已将这款ArF（193nm）光刻胶的样品已经送到客户手上进行测试，预计将会收到更多订单。

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资料显示，光刻胶是生产制造集成电路的核心材料，主要起到将作用“将设计的图像从模板中转移到晶圆表面合适的位置”的作用。因此，光刻胶的质量和性能对芯片最终的成品、性能等具有重要影响。要知道，虽然我国不乏光刻胶生产企业，但是主要都集中于G线（436nm）、I线（365nm）等低端品种， ArF光刻胶等高端种类几乎100%依赖进口。

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2019年，我国光刻胶市场本土企业的销售规模达到70亿元，在全球占据了约10%的市场份额。然而，若进一步划分到高端市场，就会发现，当前全球高端光刻胶制造有95%集中在美国和日本企业手上，日本信越化学、东京日化等企业在这其中尤为突出，垄断了将近90%高端光刻胶市场。

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打破垄断！中企纷纷“发力” ，还重金买下二手光刻机
意识到我国在高端半导体材料领域的不足，近年来我国企业晶瑞股份、上海新阳以及上文提及的南大光电也在积极钻研，试图打破美日企业的垄断。其中，早在2017年，南大光电就将“ArF193nm光刻胶项目”的开发提上日程。另外，晶锐股份则选择了借用“外力”发展高端光刻胶。
今年9月下旬，晶瑞股份发布了一则令业界“为之沸腾”的消息，该司将通过代理商（Singtest Technology PTE.LTD.）从韩国半导体生产商SK海力士（SK Hynix）手上购买一台ASML光刻机设备。业内人士指出，这台光刻机的总价值约为1102.5万美元（折合约7523万元人民币），是一台“二手货” 。按照计划，晶瑞股份将此工具用于高端光刻胶的生产。

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要知道， ArF光刻胶对28nm到7nm工艺的芯片生产具有关键作用。而截至目前，我国最大的芯片代工商——中芯国际最先进的芯片制程也才达到了14nm 。考虑到美国自9月中旬就颁布了芯片配件的出口新规，再加上荷兰巨头ASML的EUV光刻机迟迟未到货，中芯国际的芯片制程发展也受到一定束缚。
如今，我国供应商在光刻胶领域取得重大突破，意味着中芯国际在半导体材料供应商又多了一层保障，恐怕届时美国的计划也没法完全得逞。
【光刻胶|打破美日垄断，我国高端光刻胶迎首条生产线！可用于7nm芯片制造】文 |廖力思题 | 曾艺图 |饶建宁卢文祥审 |廖力思