【光刻机|【芯视野】曲线救“光刻机”？( 二 )||半导体产业|】_

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更重要的是， ASML的多年奋战，培养了一大批专业人才，将近2.5万名员工将全球100多个国家的专家、学者、工程师成为ASML最重要的核心资产。
还需要指出的是， ASML的EUV光刻机经过数年之功，才真正完备且产业化成功。
可以说，国内面临的不止是技术、工业化能力的差距，更是对基础科研、机制、人才、长期价值观等全方位的考验。
一些业内人士呼吁：国内要想在光刻机领域破局，首先要尊重技术规律，如果片面强调举国体制、政策、资本的作用，以为能够大跃进式地造出光刻机，那结果必然是四处碰壁。其次，在以国内大循环为主体、国内国际双循环相互促进的新发展格局指引下，要明了外部循环仍然至关重要。对外开放的大门永远不能关上，芯片业千万不能脱离全球创新链。最后，芯片之战已成为人才之战，特别是在基础研究教育层面要大刀阔斧革新，至少要花十年以上时间来弥补，基础研究体制机制的内省和改革更是刻不容缓。
无论如何， Plan B也必不可少。国内光刻机的突破当然希望有外力帮助，但也要认清现实，目前想要外购的可能性太低，尤其是禁运封锁在不断升级。
程睿认为，光刻机是国内半导体的一大关口，要想摆脱受制于人的被动局面，唯有一条路可走，那就是自研自产，尽管十分艰辛，要以数年时间为计。但国产化是敲门砖，如果光刻机都突破不了，那其他半导体设备就更只能依赖进口了，这个难关一定要攻下。他举例说，国内刻蚀机研发成功后，美马上放松出口设备许可，实力才是真正的通行证。
提防竞争陷阱
既然决定要仰望光刻机的“星空” ，那么路就在脚下。在这一过程中，更要提防的是竞争陷阱。
中制智库研究院院长新望发表文章表示，需要提防类似芯片这样的竞争陷阱，成为中国国力的消耗战。什么是竞争陷阱？就是当我们利用举国之力不惜代价把产业水平和西方追赶差不多的时候，西方突然放开市场，那么所有不惜代价的投资岂不打了水漂。芯片是这样，上面列举的所有卡脖子的行业都如法泡制一遍，那对整个中国国力将是巨大的消耗。竞争陷阱，不可不防。
程睿解读说，当中国即使70%国产化达到时，美国放松管控，那么大量IC进口，价格低、性能更好，那么这个所谓的70%可能一大半成“无用功” 。因此，国产化关键是质量取胜，提升竞争力，保证最基石的能力及本事。
从目前来看，美方名义上一方面全方位遏制华为，另一方面也在不断平衡利益，让英特尔、AMD等出口部分芯片，以及台积电提供28nm及以上节点代工等。程睿提及，这目的是让中国半导体总存有希望，导致国产化动力不足，这是对方的策略。因而反过来说，如果中国投资尼康、佳能合作开发出光刻机，有可能造成国内光刻机的国产化之路更加艰辛。
这真的是脆弱与反脆弱的两难选择。（校对/Sky）

稿源：(爱集微APP)

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标题：光刻机|【芯视野】曲线救“光刻机”？( 二 )

傻大方

光刻机|【芯视野】曲线救“光刻机”？( 二 )

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