3nm技术刚传来消息,美就迅速行动,中芯恐无缘EUV光刻机?
作为科技行业的根本核心 , 芯片一直以来都是困扰我国发展的难题 。 并不是我国不重视芯片技术 , 而是因为之前“汉芯”事件的出现让我国在芯片投资方面畏手畏脚 , 不敢甩开膀子大干一场 。 而如今华为遭遇的情况则恰恰是没有芯片核心技术的严重后果 , 所以自从近几年开始 , 我国也是重新开始注重芯片行业的未来投资 。
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不得不说 , 美国接二连三对华为的阻碍其实就是我国芯片行业的一个缩影 , 如果说国内其他企业也遭遇华为这样的处境 , 那么后果可想而知 。 要知道我国是一个芯片需求大国 , 如果没有产品和技术的供应 , 将会不堪设想 。 也正是因为如此 , 不管是国内企业还是国内的消费者 , 对芯片一事都开始愈发重视 。
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当然 , 我国能造出来芯片吗?能 , 但并不是顶尖的技术 , 目前我国中芯能够量产的只有14nm及其以上的技术产品 , 而N+1技术刚获得突破不久 , 只是进行了小规模的试产 , 还暂未涉及到大规模量产 。 说到中芯的N+1技术简单来说其实也就是类似于台积电7nm规格的技术产品 。
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但是目前台积电最先进的是5nm工艺 , 甚至3nm工艺也已经有了进展 。 而中芯想要制造比N+1更高端技术的产品 , 则需要用到EUV光刻机 , 所以光刻机设备也是阻碍我们国产芯片发展的一个障碍 。 只有在这方面有所突破 , 国产芯片的问题自然也就迎刃而解 , 顺利发展 。
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国产3nm芯片传来消息 , 中芯也对光刻机表态【3nm技术刚传来消息,美就迅速行动,中芯恐无缘EUV光刻机?】而在这种情况之下 , 一则消息传来 , 根据相关报道表示 , 中芯在芯片制造方面有了突破 , 已经攻克了目前最先进的芯片技术 , 也就是3nm工艺技术 。 也就是说 , 只要中芯能够从ASML的手中拿到EUV光刻机设备 , 那么就能够立刻制造出最先进的3nm芯片 。 如果该消息属实 , 那么无疑是给了国产芯片制造业注入一针“强心剂” 。
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而同时中芯国际的新任副董事蒋尚义也决定就EUV光刻机一事与荷兰的ASML进行相关的谈判 , 而谈判的主要目的就是为了能够让中芯拿到关键的EUV光刻机设备 。 如果能够成功拿下 , 那么无疑是国产芯片制造业的一个转折点 。
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不过这个消息的出现无疑是美国最不想看到的 , 毕竟刚刚限制华为在芯片上的发展 , 中芯就出现了这种技术上的转折和突破 , 想必这一点是美国难以预料到的一点 。 而同时要注意的是 , 即便是中芯能够拿到ASML提供的EUV光刻机 , 因为美国在芯片技术上的限制 , 目前也依旧无法解决华为的难题 。
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美国迅速出手 , EUV光刻机恐成泡影但即便如此 , 12月18日传来消息 , 美国突然将中芯列入了实体清单当中 , 而目的就是为了限制中芯能够获取美国先进技术的来源 。 这个消息的出现无疑是意味着中芯进口EUV光刻机的想法再次破灭 。
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可以看出 , 国产芯片发展的道路充满了艰难险阻 , 如果这种阻碍一直持续下去 , 无疑是不利于国产芯片的发展速度 。 而我们现在能做的 , 只能是靠着自己的力量去完成光刻机的研发和生产 , 而这个时间可能并不会短 。
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