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【芯片|用冰竟然可以雕刻芯片！中国欲冲破美国芯片封锁，力求弯道超车】图为光刻机制作芯片
从2018年中美贸易战开始，芯片制造问题难以解决是美国卡住我们脖子重要原因，而中国要跨过的这个“大坎”就是加快国产光刻机的研发，但是短期内难以成功研发出来，只能通过其他方式弯道超车。
图为西湖大学副校长仇旻团队
近日传来一个好消息，浙江西湖大学副校长仇旻团队教授另辟蹊径，用“冰刻”代替“光刻” ，在芯片制造工艺上取得了新的突破。作为该计划的领头人，仇旻教授从瑞典皇家工学院回国任教后，就带领团队展开了相关的研究，经过6年的艰苦奋斗，终于成功研发出了国内首台“冰刻”系统，而且目前系统功能更为强大的2.0版本也快来了。
图为仇旻教授研发的“冰刻”系统
相比传统的“光刻” ， “冰刻”又有什么优势呢？
众所周知，目前的光刻机都是将电子束打在光刻胶上，但是碍于微纳器件的精细化发展缓慢，光刻胶很容易残留，非常难以清洗，从而阻止了芯片向高精度的方向发展。
仇旻教授及其团队在试验中发现，当在零下130摄氏度左右的真空中，水蒸气和凝华成一层超级光滑的冰膜，这种冰膜就可以完美替代光刻胶。相比传统的光刻机，它具有高效清洁的优势，首先光刻机雕刻完后，剩下的冰会直接汽化消失，所以不存在需要清洁芯片的步骤，其次，可以大大简略制作流程，传统光刻机大致需要涂胶、曝光。化学显影、材料沉积和去胶剥离这五个步骤，但是利用“冰刻”技术只需用水雾包裹芯片，在超低温凝结后直接进行雕刻，这样下来比较省事多了。
或许能扭转中国“光刻胶”的劣势
光刻胶或许没有光刻机那么形势严峻，但是依旧是处于日、美、韩三国的重重包围之下，全球是光刻胶市场份额基本被他们瓜分殆尽，并且凭借他们的市场垄断地位赚取高价。目前我国的进口光刻胶占据国内87%的市场份额，自给率极低，时刻处在发达国家的管制对象。
“冰刻”技术的到来，为我们打破了这一困境，光刻胶不再依赖国外进口，我国芯片产业自主能力又会大大提升。
最后在仇旻团队最新发表的论文结尾写到，这是光刻机技术上史无前例的突破，将开辟出全新的科学研究方向。确实“冰刻”技术是一项令人激动的新技术，对以微纳级别加工为代表的超精密加工的探索和创新，正是指向中国制造的未来。（清风）