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【光刻机|帮了倒忙？ASML对中国“输出”光刻机技术，美修改规则又拉黑中企】

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在2021年的11月 ， 关于半导体内的事情是一件接着一件 。 准确的说来 ， 从美方要求提交各种各样的数据“风波”之后 ， 半导体内的“风波”就没有断过 。
而在风波之下 ， 也算是迎来了较好的消息 。 也就是在进博会上 ， ASML全球的副总裁沈波表示：对于我们中国出口光刻机方面 ， 他们ASML是保持一个很开放的态度的 。 与此同时 ， 他还指出在2020年的Q2和Q3 ， ASML发往中国的光刻机超过了全球总台数的20％ 。

再加上 ， 在这一次的进博会上 ， ASML也带来了包含建模的分析、两侧的整体光刻解决方案之下 ， 我们可以看到ASML是在用一种实际的行动在对中国“输出”他所谓的光刻机技术 。
所以 ， 在此情况下有人认为ASML对我们国家出口EUV光刻机有望 。 当然 ， 这不是我们的幻想 ， 主要是ASML的这番表态 ， 颇有些给我们国内光刻机所缺的现状帮忙的意思 。 这就让我们误以为我们获得EUV光刻机是有希望的 。

但现实是 ， 沈波在面临ASML是否可以向我们国内出口EUV光刻机的时候 ， 他并没有正面回答 。 而是用一番似是而非的话替自己“圆了谎”——“光刻机区分低端高端是不对的 ， 不同的产品芯片对于光刻机的需求是不同的 。 ”
说白了 ， ASML的态度很简单 ， 他们对于我们是持有开放态度的 ， 但是我们非要区分高端和低端这就是我们的不对了 。 总之 ， ASML就是在示好 。 这样既不会得罪美方 ， 也同样不会得罪在中国需要光刻机的企业 。

只是 ， ASML低估了美方的“底线” 。 在ASML这番表态之后 ， 美方做出了两个举动 。
其一 ， SK海力士想要引进光刻机到国内的无锡工厂遇到了挫折 。 据悉 ， 美方表示会阻拦EUV光刻机进入到中国 。 也就是说 ， 在原本只是中企禁止引入光刻机的规则之下 ， 又修改为了外企也不能引进光刻机到中国的分厂 。

海力士无锡厂
其二 ， 美方拉黑了12家中企 ， 主要是围绕我们国家科技领域的一些企业 。 其中有国科微、新华三半导体技术等等 。
对于这种无端的拉黑 ， 以及单凭借光刻机涉及到美方的光源技术这一点 ， 就霸道的管起光刻机的出货来 ， 我们可以很明显的看到这是一种没有“底线”的行为 。 当然 ， 我们也可以很清楚的知道 ， 对方的行为对我们科技领域的针对 。

所以 ， 如果说ASML开始的示好是对我们国内半导体的一种帮忙的话 ， 现在看美方的举动不难看出 ， ASML是帮了一个倒忙 。 因为在ASML的表态之后 ， 不仅是我们中国的企业无法获得光刻机 ， 甚至连踏入中国市场的外企都没有办法获得了 。 与此同时 ， 我们的中企又接着被拉黑了12家 。

而ASML可能再也不能凭借语言示好了 ， 毕竟美方的举动又再次敲醒了我们 。 对此 ， 你们是如何看待的呢？欢迎留言评论、点赞和分享！

稿源：(未知)

【傻大方】网址：/c/1202b25512021.html

标题：光刻机|帮了倒忙？ASML对中国“输出”光刻机技术，美修改规则又拉黑中企