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光刻机|EUV光刻机有望达到中国工厂,芯片巨头正式表态了



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光刻机|EUV光刻机有望达到中国工厂,芯片巨头正式表态了

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要想生产制造芯片 , 除了要有先进的制造技术外 , 还需要有先进的设备 , 尤其是光刻机 , 其是生产制造芯片的必要设备 。
就目前而言 , 光刻机技术最先进的厂商是ASML , 其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场 。
尤其是EUV光刻机 , 目前只有ASML能够研发制造 , 而该光刻机又是生产制造7nm以下芯片的必要设备 。

数据显示 , EUV光刻机目前总出货量才100多台 , 由于产能问题 , ASML还积压了几十亿欧元的EUV光刻订单 。
再加上 , EUV光刻机的技术过于先进 , ASML无法自由出货EUV光刻机 , 尽管ASML一直都在争取 , 但依旧没有实现 。
日前 , ASML方面再次重申 , 光刻机出货量翻倍 , 但售价并没有上涨 , 另外 , DUV光刻机正常出货 , 而EUV光刻机在没有许可的情况下是不能自由出货的 。
但没有想到的是 , 美在芯片方面多次修改规则后 , 其又对ASML的EUV光刻机作出了新限制 。

最新的消息称 , EUV光刻机不仅不能自由出货 , 也不允许出货安装到外企中国分厂 。
然而 , 这一消息的出现 , 让全球主要芯片企业大外意外 , 因为三星、SK以及台积电等芯片企业都在中国有很多分厂 。
全球缺芯后 , 三星、台积电以及SK不仅积极扩大产能 , 还筹备在中国建设更多新工厂 , 再加上工艺升级 , 自然需要大量的EUV光刻机 。
如今 , ASML的EUV光刻机无法出货安装到外企中国厂商 , 这显然不利于三星、SK等芯片企业在中国分厂扩产和提高工艺 。

在这样的情况 , 芯片巨头SK正式表态了 , 正在争取为中国工厂引进EUV光刻机 。
另外 , SK CEO李锡熙表示 , 正与美方合作 , 进展良好 。 EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用 , 中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通 。
这意味着EUV光刻机有望达到中国工厂 , 一旦SK成功引进EUV光刻机 , 这将促使更多先进制程芯片在中国工厂生产制造 。
据了解 , SK之所以努力争取让EUV光刻机出货安装到中国分厂 , 主要有三点原因 。

首先 , SK是全球数一数二的储存芯片制造商 , 其生产制造了大量的储存芯片 , 像DRAM , 而SK大量的分厂建在中国 , 产能几乎占SK全部产能的一半 。
要知道 , 仅无锡工厂就生产制造了大约15%的芯片 , 这意味着SK不将EUV光刻机引进到中国分厂 , 其就无法实现提升产能等 。
其次 , 储存芯片工艺大升级 。
EUV光刻机最初主要是用于生产制造手机CPU等芯片 , 但随着需求的增加 , 越来越多的储存芯片厂商也开始用EUV光刻机进行生产 。

数据显示 , 三星、美光以及SK等芯片企业都开始用EUV工艺生产制造第四代储存芯片 , 而SK采用的10nm的EUV光刻机 。
相比手机CPU等芯片而言 , 储存芯片的生产线需要更多EUV光刻机 , 原因是储存芯片的EUV应用层从1提升到5 , 平均每条生产线需要2台EUV光刻机 。
这意味着SK倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂 , 就无法生产制造更多第四代储存芯片 。
最后 , 为了节约成本 。

SK等芯片巨头有大量的工厂在中国 , 倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂 , 就意味着其需要在其它地方重新规划建设新工厂 。
要知道 , 新建工厂比工厂升级投入的成本大很多 , 新建工厂动辄都是十几亿美元的投资 , 甚至上百亿 , 关键是时间周期长 。
【光刻机|EUV光刻机有望达到中国工厂,芯片巨头正式表态了】也正是因为以上三点 , 芯片巨头SK才表态 , 将努力争取引进EUV光刻机到中国分厂 。 对此 , 你们怎么看 , 欢迎留言、点赞、分享 。


    稿源:(未知)

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    标题:光刻机|EUV光刻机有望达到中国工厂,芯片巨头正式表态了


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