光掩膜制造|必须国产化！和光刻胶一样重要却未被挖掘的重大机会挖掘|光刻胶|半导体|掩膜|机会

光刻胶的上涨已给市场一个非常清晰的脉络，很多股票涨幅已经多被炒作，现在去关注光刻胶，不如选择一个更具潜力的机会——光掩膜。
光掩膜，很多人可能没听说过，但是光掩膜确实是非常重要，而且是国产代替中必须代替的部分。
所谓光掩膜是微电子制造中光刻工艺所使用的图形模版，其原材料主要为基板（合成石英），成本占比达到90%，主要依赖进口，由国外垄断。
光掩膜主要由两部分组成，基板和不透光材料，光掩膜是半导体集成电路、显示屏制造中图形底片转移用的高精密工具。
光掩膜，光刻胶，大硅片三者都是芯片产业的上游，也是半导体产品材料端端三个最主要的成本项，其中光掩膜是生产制造过程中的核心模具，起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带的作用，芯片刻制部分的高低，和光掩膜直接发生关联。
光掩膜从应用领域划分，主要应用于集成电路、显示面板、触摸屏、电路板等。其中集成电路应用占比达到60%，显示面板领域占比达到23%。
从产业链上来看，行业集中度较高，半导体领域，高端的芯片制造厂商大多自产自足，显示面板领域，我们仅能生产中低端的光掩膜，高端的依旧依赖于进口。光掩膜制造技术壁垒高，国内自给率低，制造主要集中在少数企业和部分科研所。

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光掩膜一共有四种，最为常见的就是铬版（苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃），在透光的玻璃基板上涂上了一层不透光的金属铬。而这三种玻璃基板使用最广泛的当属石英玻璃，其次是苏打玻璃。
02 光掩膜产业链
光掩膜行业的产业链分为上游的图形设计、光掩膜设备和材料行业，中游的光掩膜制造和下游的微电子运用。光掩膜制造商分为两种类型，将光掩膜卖给其他公司的独立商业制造商，如清溢光电等；自产自用的专属制造商，如台积电等。
目前全球范围内光掩膜主要以专业生产商为主，而光掩膜生产商主要采用采购光掩膜基材的方式，少数厂商具备上游基材生产能力。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形底片的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。

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通过上中有制造后，最终光掩膜板被半导体厂商（英特尔、三星、台积电等）以及显示屏厂商（京东方、华星光电等）使用。
根据摩尔定律：集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。集成电路性能与半导体制程紧密联系，技术升级必将带来光掩膜市场增量。
国内掩膜版供需缺口扩大。2018年国内掩膜版需求7.09万平方米，国内掩膜版产量1.97万平方米，净进口量5.12万平方米，2019年国内掩膜版需求9.98万平方米，产量2.69万平方米，供需缺口达6.29万平方米。
国内平板显示行业处于快速发展期，每一代新的半导体、显示屏产品均需要新的配套光掩膜板，更加高频的半导体（移动互联网、物联网）、显示屏（显示技术革新、大屏化）新品推出。
2020年以后EUV光掩膜还将出现继续增长的趋势。继最先导入了EUV的N7+代之后，台积电计划在2020年开始量产N5。有10层以上的EUV层。
同样，三星电子也完成了华城地区的EUV专用产线V1的建设，且把5nm定位为反攻的主要手段，因此未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增长，光掩膜随之增大。
【 光掩膜制造|必须国产化！和光刻胶一样重要却未被挖掘的重大机会】市场空间大，2020技术革新，国产代替，光掩膜会成为第二个光刻胶，未来有足够空间，我们需要先人一步，做好光掩膜的布局。