尼康在光刻机跌了跟头，给中国企业带来什么启示？( 二 ) 撰文/蓝科技9月份的时候

最终在十多年后，林本坚博士在荷兰阿斯迈尔找到了知音，同时也得到了摩尔定律的坚定拥护者—老牌半导体厂商英特尔的埋单。随后一拍即合，在2004年，研发诞生了全球第一台浸润式微影光刻机。
虽然尼康也不甘示弱，硬着头皮研制出来全新的干式微影技术以此实现157n m制程能力。但是和132n m的浸润式相比，前者几乎为技术首创，而后者则在以前成熟技术上进行改进，因此阿斯迈尔自此在光刻机市场大受青睐，而尼康从这个技术分水岭后一蹶不振。
随后的EUV极紫外高端光刻机研发历程中，尼康更是小角色都没得当，直接被美国技术限制拒之于高端光刻机门外。
正是由于对新技术的准确判断与把握，加上各项前沿技术的不断容纳尝试， ASML也一举成为当今半导体设备行业的一大霸主。
光刻机作为半导体行业的重要推手，代表着整个上游产业链的门槛，国内半导体如要摆脱目前这种困境，则须借助十三五规划的春风打破国外企业早期建立的技术壁垒。
在科技领域，要想真正强大，必须要提升自己的硬实力。曾经的好高骛远，都应该在这次华为制裁事件中，安稳落地，踏踏实实砥砺前行才是王道。
技术需要专注，更需要开放创新。
【尼康在光刻机跌了跟头，给中国企业带来什么启示？】本文原创于蓝科技，未经授权，任何网站及平台不得转载，侵权必究。