良率|中芯国际:14nm良率达业界水准、先进工艺已有10多款芯片流片率达|水准|业界|中芯国际|芯片

日前，中芯国际联席CEO梁孟松博士在投资者调研会议上透漏了公司最新进展，特别是在先进工艺上的最新情况。
梁博士表示，14纳米在去年第四季度进入量产，良率已达业界量产水准。随着我们展现出的研发执行能力，客户对中芯国际技术的信心也在逐步增强，我们将持续提升产品和服务竞争力，引入更多的海内外客户。
我们第二代先进工艺技术n+1正在稳步地推进中，n+1正在做客户产品验证，目前进入小量试产，产品应用主要为高性能运算。
相对于第一代先进技术，第二代技术平台以低成本客制化为导向，第二代相较于14纳米，性能提高20%，功率减少57%，逻辑面积减少63%，集成系统面积减少55%。
总体来说，我们正在与国内和海外客户合作10多个先进工艺流片项目，包含14纳米及更先进工艺技术。
梁博士表示，我们相信，随着5G、物联网、教育和工作场所的资讯数位化的兴起，集成电路行业将涌现巨大的市场机遇。
为了推动公司的创新与发展，我们将持续推进研发工作，来服务并满足客户需求和不断增长的数字消费市场，新专案、新节点的开展需要时间，我们将一步一脚印地稳步开发先进工艺技术。

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【 良率|中芯国际:14nm良率达业界水准、先进工艺已有10多款芯片流片】【来源:快科技】【作者:宪瑞】