打破日美的垄断，中国巨头攻克核心技术，国产7nm芯片未来可期受美方禁令的影响

受美方禁令的影响，近期国内半导体产业去美化如火如荼，不过，由于我国在半导体领域的技术储备少，所以需要兼顾芯片设计、封测以及制造这三大关键环节。
在这三大关键环节中，高端光刻机是必须要攻克的难题之一。值得一提的是，除了光刻机之外，还有一种核心材料也需要格外重视。
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这一材料当属被称之为“半导体血液”的光刻胶。资料显示，光刻胶主要被应用于微细图形线路的加工制作，是加工技术的关键性材料，地位丝毫不输光刻机。而且，与光刻机一样，这一核心材料目前也被日本和欧美企业垄断，国产光刻胶的市占率少得可怜。
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目前全球光刻机行业呈现寡头垄断的格局，日本、欧美等国家和地区的前五大光刻胶制造商垄断了全球87%的市场份额，而国产光刻胶的占比还不到5% 。
故而，目前我国依然需要大量进口光刻胶，且不提企业或国家为之付出的成本，从长远来看，这显然不利于我国半导体行业的实现独立。
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所以，近年来相关企业和机构一直在研究光刻胶这一核心材料，时至今日，终于有一家中国科技巨头成功攻克了这项核心技术，打破了日美垄断。这位巨头正是成立于2000年，且背靠南京大学的江苏南大光电材料股份有限公司。
据笔者了解，南大光电在2016年进入光刻胶制造领域，为实现突破该公司每年都会投入占营收比例20%的研发费用。
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2017年，南大光电就承担起193nm（ArF）光刻胶材料的研发与产业化项目。短短两年后，南大光电成功安装起一条193nm光刻胶生产线，并且研制出光刻胶产品并交由客户评估。
11月12日消息，南大光电价值6亿元的首条ArF光刻胶生产线已经投产。报道显示，这一项目达产后，预计年销售额将达到10亿元，年利税预计在2亿元左右。
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由此可见，南大光电不负众望，实现了193nm光刻胶材料的产业化项目。此外，由于ArF光刻胶在7nm EUV工艺全面成熟之前仍是市场主流，所以南大光电的成功有望助力国产7nm芯片实现突破。
总而言之，无论是南大光电还是中国半导体产业都未来可期。
【打破日美的垄断，中国巨头攻克核心技术，国产7nm芯片未来可期】文/谛林审核/子扬校正/知秋