EUV|EUV光刻技术获得重大进展，三星成最大功臣，会与中国分享吗？重大进展|三星|最大功臣|中国

据报道，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了重大进展，以三星、SK海力士等为代表的芯片厂商对光刻技术进行了深入的探索，终于收获成果，目前已开始使用5nm工艺的EUV光刻技术来生产手机芯片。

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业内人士猜测，背后最大功臣很有可能是三星。因为三星是全球排名第二的芯片代工企业，在芯片领域的实力毋庸置疑。除了芯片之外，三星业务涉及到电子、建筑、军工等领域，而华为、小米等都是三星重要的客户。
如今，韩国EUV光刻技术取得重大突破，自然都会想到三星。相关资料显示，EUV光刻技术难度极大，堪比原子弹的研发。目前，针对EUV光刻技术领域，全球共有40多个国家参与了研发，其中实力最强的莫过于美国企业。

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就算是荷兰巨头ASML，也必须依赖美国技术的帮助。之前，中芯国际采购了EUV光刻机，可是迟迟不能到货，中间必然遭到了重重阻碍。
芯片制造环节是我国一大短板，EUV光刻技术还需要大量的研究。许多网友看到韩国企业的光刻技术成绩后，便提出了问题，韩国企业会不会与中国分享这一技术呢？

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在我看来，韩国企业是不会分享的。因为在共享EUV光刻技术上，涉及到了专利技术。相关数据显示，在EUV光刻技术上，韩国企业正在不断缩小与外国的差距，去年提交的50项专利中，韩国企业就提交了40项，而今年韩国企业提交的专利数也是外国的2倍以上。
【 EUV|EUV光刻技术获得重大进展，三星成最大功臣，会与中国分享吗？】所以，韩国怎么舍得将苦心研发的专利技术拿来共享呢？当然了，从韩国EUV光刻技术上的研发之路，对于中国企业拥有很大的借鉴意义。唯有坚持自主创新，才能不受制于人，相信在国家的支持下以及企业的不懈努力之下，中国半导体必将惊艳世界。